| 研究課題/領域番号 |
11555190
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
金属生産工学
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| 研究機関 | 室蘭工業大学 |
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研究代表者 |
嶋影 和宜 室蘭工業大学, 工学部, 教授 (70005346)
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| 研究分担者 |
上村 陽一郎 科学技術庁無機材研究所, 主任研究官
三浦 康孝 昭和キャポットスーパメタル(株), 開発部研究員
平井 伸治 室蘭工業大学, 工学部, 助教授 (10208796)
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2001
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| 研究課題ステータス |
完了 (2001年度)
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| 配分額 *注記 |
13,100千円 (直接経費: 13,100千円)
2001年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
2000年度: 4,800千円 (直接経費: 4,800千円)
1999年度: 6,300千円 (直接経費: 6,300千円)
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| キーワード | 金属熱還元 / 五酸化タンタル / Mg還元 / タンタル粉末 / 合成プロセス / 電解コンデンサー / 粒度分布 / Na還元 / 金属熱還元法 / 酸化タンタル / 粒度分布、 / 比表面積、 / コンデンサー / CVD法 / 五塩化タンタル / 水素還元 / 高容量コンデンサー / プロセス / 開発 |
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| 研究概要 |
現在、Ta粉末はNa還元法によって製造されているが、粉末は凝集し易く、微粉末化されず、高密度化しがたいと言われている。そこで、新たなタンタル粉末製造プロセスを構築する必要がある。平成11年度にCVD法により次ぎの反応によって高純度のTa微粉末を生成したが、(TaCl_5(g)+(5/2)H_2(g)=Ta(s)+5HCl(g))この反応によるTa粉末合成では、気相一気相反応であるため、反応率が悪く、研究が進行し難かった。そこで、平成12年度からは、新しいTa粉末製造プロセスとして、五酸化タンタルを原料とし、金属Mgを還元剤に用いた次式の反応により、(Ta_2O_5(s)+(5Mg(g)=2Ta(s)+5MgO(s))によって、比表面積の大きい高純度のTa粉末製造法について研究を行った。平成12年度は、温度依存性、時間依存性について調査した結果、高温ほど反応はし易いが、粉末の細孔が低下し、粉末特性の向上には低温還元が必要であることが判明した。
そこで、本年度は650℃、700℃、750℃の低温で還元実験を行い、合成Ta粉末の温度依存性を調べ、SEM観察、粒度分布、比表面積、化学分析などの特性評価を行った。650℃の還元では還元反応が充分に進行せす、700℃以上で還元する必要が分かった。またSEM観察および粒度分布測定によれば、粒子直径1μm〜5μm程度のTa粉末が合成されていることが判明した。化学分析の結果によれば、従来のNa還元によるTa粉末と同程度の純度のものが製造可能であった。
今後は、タンタル微粉末の大量製造プロセスの開発を行う予定である。
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