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複酸化物薄膜のプラズマCVD装置シミュレーションコードの開発

研究課題

研究課題/領域番号 11555208
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分展開研究
研究分野 反応・分離工学
研究機関九州大学

研究代表者

今石 宣之  九州大学, 機能物質科学研究所, 教授 (60034394)

研究分担者 秋山 泰伸  九州大学, 機能物質科学研究所, 助手 (10231846)
佐藤 恒之  九州大学, 機能物質科学研究所, 助教授 (80170760)
研究期間 (年度) 1999 – 2001
研究課題ステータス 完了 (2001年度)
配分額 *注記
13,800千円 (直接経費: 13,800千円)
2001年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
2000年度: 2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
1999年度: 9,800千円 (直接経費: 9,800千円)
キーワードプラズマCVD / ニオブ酸リチウム / 複酸化物膜 / アフターグロー型CVD / 酸化物膜 / シミュレーション
研究概要

・プラズマCVD及び熱CVDを問わず、CVDにおける表面反応過程が重要である。この表面反応過程の解析及び成膜形状のシミュレーションを可能にするモンテカルロシミュレーションコードを開発した。本コードによれば、入射粒子の運動エネルギー、入射方向、反応性付着確率を与えればミクロな凹凸上への成膜形状を予測可能であり、遂に実験結果から表面での反応速度を求めるためにも利用できる。表面反応速度は、気相内濃度の線型関数あるいは非線型関数であってもよいため、広範な応用が可能である。
・複酸化物CVDの実験的研究
(1)代表的複酸化物であるLiNbO_3について、LiDPM, Nb(OC_2H_5)_5を原料とするCVD実験を実施した。その結果、Li及びNbの供給濃度の比がある特定の狭い領域にある時LiNbO_3が生成する事を確認した。
(2)アフターグロープラズマCVDによるSiO_2膜のCVD実験を行い、原料としてTRIESとTEOSを用いた場合の反応性の相違を明らかにした。

報告書

(4件)
  • 2001 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2000 実績報告書
  • 1999 実績報告書

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公開日: 1999-04-01   更新日: 2016-04-21  

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