| 研究概要 |
(1)メチルタングステン錯体Cp^*W(CO)_3Me(Cp^*=η-C_5Me_5)をヒドロジシランHSiMe_2SiMe_3共存下で光照射したところ,シリル(シリレン)タングステン錯体のカルボニル配位子の酸素が別の分子のシリレン配位子に互いに配位して二量化した錯体[Cp^*W(CO)_2(=SiMe_2)SiMe_3]_2(1)が得られた。一方メチルタングステン錯体を嵩高い置換基もつヒドロジシランHSiMe_2SiMeMes_2存在下で光照射したところ,塩基の配位していないシリル(シリレン)タングステン錯体Cp^*W(CO)_2(=SiMes_2)SiMe_3(2)が得られた。2は初めての塩基で安定化されていないシリル(シリレン)錯体であり,本研究の最大の目標としていた化合物である。1および2の結晶構造解析に成功し,タングステンーシリレン配位子間が非常に短いことなど,その特異な構造を明らかにした。
(2)ジゲルミルタングステン錯体Cp^*W(CO)_3GeMe_2GeMe_3を光照射したところ、塩基の配位していないゲルミル(ゲルミレン)タングステン錯休Cp^*W(CO)_2(=GeMe_2)GeMe_3(3)が定量的に得られた。これはメチル基という小さなアルキル基のみをゲルマニウム上に持つゲルミレン錯体の初めての例である。錯体3にFe_2(CO)_9を反応させたところ,ゲルミル基がタングステンから鉄に転位し,ゲルミレン配位子が2つの金属原子を架橋した錯体CP^*(OC)_3W(μ-GeMe_2)Fe(CO)_3GeMe_3がほぼ定量的に生成した。これはゲルミレンー金属結合に配位不飽和な金属フラグメントが付加した初めての例であり,またゲルミル基が2つの金属の間を転位した初めての例である。
|
