| 研究課題/領域番号 |
11640576
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
機能・物性・材料
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
近藤 寛 東京大学, 大学院・理学系研究科, 講師 (80302800)
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| 研究分担者 |
太田 俊明 東京大学, 大学院・理学系研究科, 教授 (80011675)
横山 利彦 東京大学, 大学院・理学系研究科, 助教授 (20200917)
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2000
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| 研究課題ステータス |
完了 (2000年度)
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| 配分額 *注記 |
3,700千円 (直接経費: 3,700千円)
2000年度: 400千円 (直接経費: 400千円)
1999年度: 3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
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| キーワード | 自己組織化膜 / チオール / STM / XAFS / メカニズム / 昇温脱離(TDS) / 走査型トンネル顕微鏡(STM) / X線吸収分光(XAFS) / 分子配列 |
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| 研究概要 |
本研究では固体基板上に形成されるチオール系自己組織化膜の形成過程をSTM及びXAFSによってin-situで追跡し、分子自己組織化のミクロスコピックなメカニズムの理解を目指すことを目的として研究を行ってきた。特に注目した点は、分子・基板相互作用が与える自己組織化への影響である。このことを調べるためにチオール基との相互作用が異なる幾つかの基板(Au,Ag,Cu,O/Cu,Si)を用いて自己組織化過程の膜の配向性と界面構造を調べた。これらの系の系統的な比較から、分子膜の構造秩序化に3つの重要な因子、(1)十分な分子密度、(2)表面拡散、(3)膜の内部構造と基板との界面構造の整合性、があり、これらがすべて満たされたときのみ高度な秩序性を持った膜へ自己組織化することが分かった。また、自己組織化する系において、基板によって(1)が相対的に重要になる吸着律速と、(2)が重要になる拡散律速の二通りの自己組織化の様式があることを示した。もう一つ注目した点は、アルカンチオールに官能基を導入して分子間の相互作用を変えた場合に自己組織化に与える効果である。具体的には、チオフェン及びポルフィリンを導入したアルカンチオール分子の金基板上での振る舞いについて検討した。チオフェンを導入した系では、上記の(3)の構造整合性が分子密度によって変わるため、ある範囲の分子密度でのみしか自己組織化が起きないことが分かった。ポルフィリンを導入した系では、大きなポルフィリン環が吸着を立体的に阻害するので、吸着部位であるチオレート基を長いアルキル鎖によってポルフィリン環から十分離さないと分子密度が上がらず自己組織化しないことが分かった。さらに、チオールと異なる構造を持つカルコゲノフェン分子の自己組織化を調べ、上記の因子を満たすセレノフェンのみが秩序構造を形成することが分かった。
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