| 研究課題/領域番号 |
11650049
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
応用光学・量子光工学
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| 研究機関 | 姫路工業大学 |
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研究代表者 |
新部 正人 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 助教授 (10271199)
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| 研究分担者 |
渡邊 健夫 (渡辺 健夫) 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 助手 (70285336)
木下 博雄 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (50285334)
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2001
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| 研究課題ステータス |
完了 (2001年度)
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| 配分額 *注記 |
3,200千円 (直接経費: 3,200千円)
2001年度: 500千円 (直接経費: 500千円)
2000年度: 1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
1999年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
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| キーワード | 軟X線 / 光学素子 / 非球面 / 薄膜 / 多層膜 / リソグラフィ / 点回折干渉法 / 波面収差 / X線 / 内部応力 / 表面粗さ |
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| 研究概要 |
本研究は薄膜の堆積法を用いた新規の非球面形状創製法を提案し、実際に非球面形状を設計・作製・評価することにより、その実用化への問題点を明らかにしていくことを目的としている。
1.堆積法による非球面形状の創製
堆積マスクを用いた不均一膜厚の薄膜の堆積により、軸対称性のある非球面形状に対しては、ほぼ目的の形状が得られることを示した。本研究では形状計測にフィゾー干渉計と干渉測長器を用いたが、堆積法は原理的には特に非球面をつくるのに問題のない方法であることを示した。
2.堆積薄膜の表面粗さと応力の制御
薄膜の表面粗さと応力の理由から、非球面創製のために用いる薄膜は軟X線ミラー用の多層膜が適当である。多層膜の場合は、少なくとも全厚みが1μm位まで、ほとんど表面粗さの増大のないことがわかった。また、多層膜はアルゴン圧などの成膜条件のほか、膜厚比をかえることにより、内部応力をほぼ0となるよう制御できることがわかった。
3.極紫外光を用いた軟X線結像光学系の波面収差測定
点回折干渉(PDI)法は、小さなピンホールを透過した光が理想的な球面波となることを利用し、これと被検光学系(光学素子)を通り、収差を含んだ波面を干渉させることにより、光学素子の形状等を計測する方法である。本研究ではシュワルツシルト光学系を用いて、PDI法の基礎検討をおこなった。軟X線によるPDI干渉縞を観測することができ、またその解析から、テスト光学系全面にわたる波面収差マップを得ることができた。その測定精度は0.1nm以下であり、極紫外光リソグラフィー(EUVL)用の光学系の評価に十分対応できることが分かった。
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