| 研究課題/領域番号 |
11650790
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
反応・分離工学
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| 研究機関 | 室蘭工業大学 |
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研究代表者 |
小幡 英二 室蘭工業大学, 工学部, 教授 (40002935)
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| 研究分担者 |
太田 光浩 室蘭工業大学, 工学部, 助手 (00281866)
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2000
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| 研究課題ステータス |
完了 (2000年度)
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| 配分額 *注記 |
2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
2000年度: 1,100千円 (直接経費: 1,100千円)
1999年度: 1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
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| キーワード | 流動層 / 晶析装置 / 結晶成長速度 / 粒度分布 / 粒径分布 / 硫酸カリウムアルミニウム / 燐酸2水素カリウム / 自動化 |
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| 研究概要 |
本研究は試料として硫酸カリウムアルミニウム12水,燐酸2水素カリウムを用い、流動層晶析装置を用い流動層、固定層と静止系の3つの系で晶析実験前後に結晶の粒径を実測し、結晶成長速度を求めた.特に流動層では流量、圧力損失の自動化により、オンライン粒度分布測定法を試みた。
流量と圧力損失は流量計(LF-610、PAC-D1(株)STEC,LM10 ZZT,LM05 ZZTケニス(株))、圧力センサー(SE-49(株)エムテック研究所)の出力をAD変換ボード(AZI-3104(株)インターフェース)によりコンピュータに接続し自動化を試みている.現在の実験では流量のデジタル取込に未だ不良が生じ、完全な自動化には至っていない.固定層の成長速度は晶析装置に金網を設置し、粒子の移動がないような固定層を作製した。静止系の成長速度はビーカー内に結晶を吊して結晶を成長させた。
流動層による成長速度は静止系、固定層のそれと比べて過飽和度の影響を最も受けており、同じ過飽和度で比較すると後者のふたつより5〜20倍も結晶成長速度が大きくなった。流動層の成長速度は指数的に増加していることも認められた.今後,空塔速度のデジタル化でオンライン粒径分布測定法が可能である.
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