| 研究課題/領域番号 |
11694179
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
応用光学・量子光工学
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| 研究機関 | 豊田工業大学 |
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研究代表者 |
生嶋 明 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 教授 (10029415)
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| 研究分担者 |
KHALED JABRI (JABRI Khaled / KHALED Jabri) 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, ポストドクトラル研究員 (50309001)
斉藤 和也 (斎藤 和也) 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 講師 (20278394)
藤原 巧 長岡技術科学大学, 化学系, 助教授 (10278393)
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2000
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| 研究課題ステータス |
完了 (2000年度)
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| 配分額 *注記 |
5,900千円 (直接経費: 5,900千円)
2000年度: 2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
1999年度: 3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
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| キーワード | ガラス材料 / 2次光非線形性 / ポーリング / 光導波路 / 光ファイバ / フォトニクス / シリカガラス / 光誘起欠陥生成 / 紫外光ポーリング / アンダーソン局在 / 光デバイス / ガラス材料、 / 2次光非線形性、 / ポーリング、 / 光導波路、 / 光ファイバ、 |
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| 研究概要 |
本研究は、紫外光ポーリング(紫外光照射+高電場印加)という独自の方法により、ガラス材料に結晶レベルの2次光非線形性を発現させ、ガラス本来の高機能特性(高透明度、広い透過波長域、賦形性など)とアクティブな特性を併せ持つ新フォトニクス材料及びそれを用いた新機能デバイスを創製することを目的として行ったものである。得られた研究成果の要点を以下に記す。
(1)紫外光ポーリングにより発現する大きな2次光非線形性の起因が、結晶化生成に伴う3次光非線形性の増大と、GeE'と呼ばれる欠陥生成に伴う空間電場形成の複合効果(χ^<(2)>=3Escχ^<(3)>)により説明できることを明らかにした。
(2)薄膜ガラスにおいて発現する2次光非線形性の最適化を行ない、今までで最も大きな2次光非線形性(d定数=12.5pm/V)を得ることに成功している。
(3)光誘起ESRスペクトルおよびVUV分光スペクトルの解析により、バンド間遷移による電子励起からの欠陥生成とアンダーソン局在の関係を明らかにしつつある。
(4)Bath大学提案のフォトニック・クリスタルへの本技術の適用を進めている。
これらの成果は、フォトニクス応用において必須となる光スイッチなど、ガラスをベースとした全く新しいアクティブなデバイス創製に繋がることが期待されるものである。
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