• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

レーザー同軸分子線発生装置の開発

研究課題

研究課題/領域番号 11740317
研究種目

奨励研究(A)

配分区分補助金
研究分野 物理化学
研究機関東京工業大学

研究代表者

辻 和秀  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助手 (40262258)

研究期間 (年度) 1999 – 2000
研究課題ステータス 完了 (2000年度)
配分額 *注記
2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
2000年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
1999年度: 1,100千円 (直接経費: 1,100千円)
キーワード超音速ジェット / パルス分子線源 / レーザー / 分子線強度 / 回転温度 / パルス幅 / アセチレン / 吸収
研究概要

本研究では、パルス分子線とレーザーを組み合わせた実験における高感度測定法として、パルス分子線にレーザーを効率よく照射できるレーザーと完全に同軸な分子線を生成することのできるパルス分子線源を開発、評価することを目的とした。パルス分子線とレーザー技術を組み合わせた実験において、測定の精度および検出限界を決めている要因の一つは、レーザーによって励起される分子の量だからである。
今年度はレーザービームと同軸な分子線を生成するパルス分子線源を用いて、評価実験を行った。新たに開発したレーザー同軸パルス分子線源は既存の分子線源に比べ、強度は弱く、冷却能力に劣ることが明らかとなった。また、検出感度に関して、既存のシステム(真空排気装置、検出装置など)との組み合わせでは十分な性能を発揮せず、改良の余地があることが示された。分子線源に関しては吹き出し部の改良や駆動電源の改良が、装置全体としては、真空排気装置、検出装置の改良が必要と結論した。また、新規分子線源の開発に平行し既存の分子線源を用いて、アセチレンのリュードベリ状態に関する実験を行った。アセチレンのg対称リュードベリ状態を(2+1)REMPI-TOFMS法で観測、バンドの回転解析、量子欠損の値より、約83000cm^<-1>に4p^1Δ_g及び4p^1Σ_g状態が存在する事を見いだした。また、g対称リュードベリ状態を経由する多光子過程により、C_2の励起状態が生成することを見出した。C_2励起状態からの発光を検出することで、さらにnの大きなg対称リュードベリ状態を観測することにはじめて成功した。

報告書

(2件)
  • 2000 実績報告書
  • 1999 実績報告書
  • 研究成果

    (1件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (1件)

  • [文献書誌] K.Tsuji,K.Nakata,H.Oishi,K.Shibuya: "An OH monitoring method using infrared-ultraviolet double resonance laser induced fluorescence"Bulletin of the Chemical Society of Japan. 73. 2695-2702 (2000)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書

URL: 

公開日: 1999-04-01   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi