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本研究によって明らかになった内容は以下のとおりである。
1.1方向について2回測定する必要があったが、無偏光ビームスプリッタを用いた2ビーム法によって1回で測定できる測定システムの確立を検討した。
2.6方向からの測定は方向数を減らしておこなうことを考えた。測定方向数が電界分布再構成に与える影響をコンピュータシミュレーションし、3方向からでも測定が可能であることを示した。
3.3方向より光が入射できる6面セルを作成し、実験的に3方向からの測定で電界ベクトル分布の再構成が可能であることを示した。
4.3方向×2設定分の光強度を測定できる測定システムを構成した。3方向同時測定システムと名付けられた本測定システムは昨年度までの研究成果を考慮して、2ビーム法を組み合わせた測定系を3つ組み合わせたものであるが、光学系のセッティングにはかなり時間と技術を要する。
5.3方向同時測定システムを用いて測定が行われた。得られた電界分布は理論値と比較された。電界分布を得るための測定時間は100ms程度となり、1回のパルス印加で電界分布を再構成するためのデータを得るという当初の目的を達成できた。
6.電界ベクトルの方向を決定するためのシミュレーションを現在、おこなっている。
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