皮膜内に自然形成するシリカの濃度傾斜構造−表面処理用金属電極の長寿命化への応用−

• 研究課題/領域番号: 11875154
• 研究種目: 萌芽的研究
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 材料加工・処理
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 虫明 克彦 東大, 生産技術研究所, 助手 (10092347)
• 研究期間 (年度): 1999
• 研究課題ステータス: 完了 (1999年度)
• 配分額: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円); 1999年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)