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コヒーレント光を用いた表面原子の一括操作法の開発研究

研究課題

研究課題/領域番号 11875159
研究種目

萌芽的研究

配分区分補助金
研究分野 材料加工・処理
研究機関理化学研究所

研究代表者

目黒 多加志  理化学研究所, 半導体工学研究室, 副主任研究員 (20182149)

研究期間 (年度) 1999 – 2000
研究課題ステータス 完了 (2000年度)
配分額 *注記
900千円 (直接経費: 900千円)
2000年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
キーワードコヒーレント光 / 干渉 / 位相制御 / 非線形性 / 直接パターニング / 周期構造 / 非線形成
研究概要

速度の非線形の強い系で、コヒーレント光の干渉を利用することにより、表面の形状制御を可能にする新しい原子操作プロセスの開発を目指して、研究を行った。速度の非線形性の強い系として、本研究ではレーザーアブレーションを利用してPMMAやPTFE膜のエッチングによる構造の一括作成を目指した。
1パルス照射の実験において、レーザー強度の制御により、ライン・スペース比並びに断面形状の制御が可能であることが示唆された。しかし、主に照射時の位置あわせ精度の問題であると思われるが、複数回レーザーパルス照射を行った場合には、パターンのぼけが生じる。この問題は、光学系の振動除去等で解決できると考えている。
また、計算から構造の形状の自由度を増加させるために、多波長のレーザーの利用の可能性が示唆された。しかし、これに関しては光学系が非常に複雑になるため、現段階では実験にまでは至っていない。

報告書

(2件)
  • 2000 実績報告書
  • 1999 実績報告書

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公開日: 2000-04-01   更新日: 2016-04-21  

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