| 研究課題/領域番号 |
12355025
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
無機材料・物性
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| 研究機関 | 豊田工業大学 |
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研究代表者 |
生嶋 明 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 教授 (10029415)
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| 研究分担者 |
下平 憲昭 旭硝子中央研究所, 材料解析グループ, 主任研究員
松本 潔 旭硝子中央研究所, 材料解析グループ, グループリーダー
斎藤 和也 豊田工業大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (20278394)
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| 研究期間 (年度) |
2000 – 2001
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| 研究課題ステータス |
完了 (2001年度)
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| 配分額 *注記 |
20,120千円 (直接経費: 19,400千円、間接経費: 720千円)
2001年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
2000年度: 17,000千円 (直接経費: 17,000千円)
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| キーワード | シリカガラス / 光リソグラフィー / 構造緩和 / ガラス転移 / F_2エキシマレーザ / エキシマレーザー |
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| 研究概要 |
本研究は、次々世代・光リソグラフィーに照準を合わせた、真空紫外透過波長域の広いシリカガラスを開発することを目的として行ったものである。研究成果の要点を以下に記す。
(1)独自に開発した超広温度領域(-269℃〜2000℃)真空紫外分光装置を用いて、シリカガラスの吸収端の温度依存性を明らかにした。この測定結果より、シリカガラスの紫外吸収端を決定する要因を解明し、F2エキシマレーザー用シリカガラスの開発に明確な指針を得た。
(2)フッ素がシリカガラスの紫外吸収端に及ぼす影響を、構造に及ぼす効果と、構造緩和に及ぼす効果に分離して把握することに成功した。
(3)F_2エキシマレーザーの内部透過率を93%まで向上させることに成功した。(特許申請中)
(4)F_2エキシマレーザー照射によるシリカガラスの温度上昇をシミュレートし、照射による透過率減少の影響を定量化することに成功した。(特許申請中)
(5)紫外吸収端の正確な測定方法を確立した。(特許申請中)
(6)Arガス中の紫外線照射により、真空紫外用光学材料の劣化した特性が回復できることを見出した。
(7)原子量の大きな添加物により透過特性をさらに向上させる可能性を見出した。
これらの成果は、ITを支える半導体集積化技術に大いに貢献するものと期待される。
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