研究課題/領域番号 |
12450133
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
電子・電気材料工学
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研究機関 | 大阪産業大学 |
研究代表者 |
杉村 明彦 大阪産業大学, 工学部, 教授 (90145813)
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研究分担者 |
内藤 裕義 大阪府立大学, 工学部, 教授 (90172254)
松本 恵治 大阪産業大学, 工学部, 助教授 (40229547)
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研究期間 (年度) |
2000 – 2002
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研究課題ステータス |
完了 (2002年度)
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配分額 *注記 |
13,100千円 (直接経費: 13,100千円)
2002年度: 2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
2001年度: 5,000千円 (直接経費: 5,000千円)
2000年度: 5,500千円 (直接経費: 5,500千円)
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キーワード | 液晶 / 重水素化核磁気共鳴法 / アンカリングエネルギ / ダイレクタ分布 / 連続体理論 / ダイレクタの動的挙動 / 液晶分子の動的挙動 / 界面現象 |
研究概要 |
液晶ダイレクタの動的挙動と表面アンカリング機構の解明は、液晶光電効果に限定されず、ナノメトリック極限領域での液晶界面物性や、液晶相変化を含む物理現象を明らかにするための重要な研究課題の一つであり、基板界面での液晶分子の微視的な配向機構がバルクに与える物理化学的な現象解明に向けて重要な基礎研究課題である。本研究は、すでに報告している液晶ダイレクタの定常的な外揚応答歪み分布を記述するための一般化表面アンカリングモデルに基づき、薄膜界面での液晶ダイレクタの表面アンカリング効果を明らかにするだけでなく、液晶ダイレクタと液晶分子サイトのダイナミクスを明確にすることを目的に行った。実験的には、液晶セル基板上でのアンカリング効果に基づくバルク内ダイレクタ歪分布を、新たに提案した電場重複印加重水素化核磁気共鳴法を用いて明らかした。種々の表面アンカリング条件を有する液晶素子バルク内でのダイレクタ分布解析結果と、核磁気共鳴実験結果との対応から、ネマチック液晶素子基板表面エネルギに対応したバルク内ダイレクタ分布を明確にし、核磁気共鳴スペクトルによるダイレクタ分布の理論的解析手法を確立した。さらに、新規に開発した電場重複印加重水素化核磁気共鳴法を用いて、シアノビフェニール系液晶分子各サイトの動的挙動を調べ、電場・磁場競合効果による分子各サイトの非平衡状態から平衡状態への動的回転は、骨格基と柔軟基共に同じであることを明らかにした。これらの研究成果と研究手法は、極微なアンカリング強度有する薄膜界面での液晶分子のアンカリング機構を含めた動的挙動解明や、新たな液晶分子素子開発の進展につながる。
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