| 研究課題/領域番号 |
12470424
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
補綴理工系歯学
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| 研究機関 | 昭和大学 |
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研究代表者 |
宮崎 隆 昭和大学, 歯学部, 教授 (40175617)
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| 研究分担者 |
佐々木 崇寿 昭和大学, 歯学部, 教授 (50129839)
李 元植 昭和大学, 歯学部, 助手 (40276605)
柴田 陽 昭和大学, 歯学部, 助手 (30327936)
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| 研究期間 (年度) |
2000 – 2001
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| 研究課題ステータス |
完了 (2001年度)
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| 配分額 *注記 |
11,200千円 (直接経費: 11,200千円)
2001年度: 2,500千円 (直接経費: 2,500千円)
2000年度: 8,700千円 (直接経費: 8,700千円)
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| キーワード | チタン / 放電加工 / 表面改質 |
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| 研究概要 |
筆者らは効率的な生体材料加工法として放電加工を用いた研究を行っているが、イオンを含有する電解液中で放電を生じさせ、被加工物であるチタン表層にイオン修飾を行い、加工と同時に表面処理を行う研究を行った。当初は加工液にリン酸三カルシウム+クエン酸水溶液を用いたが、Caイオン濃度を高めかつ安定した放電を得るため第一リン酸カルシウムを用い予備実験を行ったところ、比較的電気伝導度が高い状態でも放電は可能であるが、パルスの無負荷電圧はリン酸三カルシウム+クエン酸水溶液の場合よりも下げた状態でなければ安定した放電が得られなかった。また、水溶液濃度が高くなるにつれてパルス初期のリークが大きくなり,加工時の放電状態は水溶液濃度が高くなるに従い不安定となり、0.4wt%より高濃度では加工としての安定な放電を維持することが不可能であった。それでも第一リン酸カルシウム水溶液の方がイオン濃度は高く出来るため、加工液は水道よりイオン交換樹脂を通過させた脱イオン水をコントロールとし、これに第一リン酸カルシウムを加え水溶液の濃度を0.4wt%から0.025wt%まで変化させ、加工時の放電状態、加工面の表面分析を行った。各濃度での加工実速度は0.05wt%以下ではコントロールと同等だが、それ以上では放電の不安定化による速度低下が認められた。加工面のSEM観察においてコントロールでは微細な突起が目立つのに対し、水溶液濃度が高い試験片ほど大きく突起の少ない放電痕となり、発生した放電プラズマが短時間で拡散しているものと考えられる。またXPS分析により表層にはCa, Pとも存在するが、深部ではCaもチタンの放電加工層に取り込まれていることおよび取り込まれる量は液中のイオン濃度に依存することが明らかになった。
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