• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

微小プラズマ材料プロセシング装置の高集積化-マイクロプラズマチップの創製-

研究課題

研究課題/領域番号 12555185
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分展開研究
研究分野 構造・機能材料
研究機関東京大学

研究代表者

寺嶋 和夫  東京大学, 大学院・新領域創成科学研究科, 助教授 (30176911)

研究期間 (年度) 2000 – 2001
研究課題ステータス 完了 (2001年度)
配分額 *注記
13,400千円 (直接経費: 13,400千円)
2001年度: 6,400千円 (直接経費: 6,400千円)
2000年度: 7,000千円 (直接経費: 7,000千円)
キーワードマイクロプラズマ / プラズマチップ / プラズマCVD / カーボン / CNx / プラズマ計算シミレーション / プラズマ計算シミュレーション / 高集積プロセス装置 / プラズマシミュレーション
研究概要

本研究は、プラズマ材料プロセシング装置の半導体基板上へのマイクロ集積化、そしてその究極の姿としてのプラズマプロセス装置のマイクロチップ化-プラズマチップの創製-を目指すしたものである。
本研究により、以下のような研究成果が得られた。
(1)プラズマ発生電極;石英基板上にCr電極を用いたサブμ(最小0.5μm)の程度のギャップ間隔を有するプラズマ発生電極の自作、それを用いたナノプラズマの発生に成功した。本研究によりプラズマチップの高集積化が期待される。
(2)プラズマ診断;マイクロ発光分光法、および、マイクロラングミュアープローブ用プローブ法によるプラズマ診断(電子密度、電子温度など)を行い、多種のガスプラズマに対して、そのマイクロプラズマの高密度性を再確認した。
(3)プラズマ計算機シミュレーション:PIC-MMC法による上記プラズマ計算シミュレーション(He, Ne, Arに対して)を行い(原子密度、エネルギー、イオン密度、エネルギー、電界)、診断実験の妥当性などを確認した。
(4)堆積物評価;簡便なマルチチップCVD装置を構成し、それを用いたC系CVD(CH4+H2ガス系)、CN系CVD(CH4+N2ガス系)を行い、IR、 XPS, AESなどによりその各種C(グラファイト、アモルファスカーボン、ダイアモンド、ダイアモンドカーボン)、CN合成を確認した。また膜厚測定より、堆積速度が1μm/m以上にも達することを確認した(従来法の100倍以上)。
プラズマの微小(マイクロ)化によるプラズマ密度の増大(スケールに逆比例)に伴うプロセスの高速化、に加えプロセス装置の集積化によるプロセスの高効率化、そしてトータルとしてのプロセスの低環境負荷化、ハイパフォーマン化が大いに期待できる、プラズマチップのプロットタイプの創製への道がまた一歩進められた。

報告書

(3件)
  • 2001 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2000 実績報告書
  • 研究成果

    (19件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (19件)

  • [文献書誌] T.Ito, K.Terashima: "Development of plasma chip"Surface and Coating Technology. 133-134. 497-500 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 伊藤剛仁, 寺嶋和夫: "マイクロメーターからナノメータ領域でのプラズマの生成とその材料科学への応用"プラズマ・核融合学会誌. 76巻・5号. 471-476 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Ito, T.Izaki, K.Terashima: "Application of microscale plasma to material processing"Thin Solid Films. 386. 300-304 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Ito, K.Terashima: "Multiple Microscale Plasma CVD Apparatus on a Substrate"This Solid Films. 390. 234-236 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 寺嶋和夫: "メゾ空間プラズマの材料表面処理への応用-プラズマチップ(集積プラズマプロセスデバイス装置)を例にして-"表面技術. 52巻・12号. 841-842 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T. Ito and K. Terashima: "Generation techniques of micro-/nanometer-scale plasmas"Oyobuturi. 70-4. 448-449 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K. Terashima and T. Ito: "Production of Micro-/Nanometer-Scale Plasmas and Its Application to Materials Science"Journal of Plasma and Fusion Research. 76-5. 471-476 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K. Terashima: "Application of Mezzo-Space Plasma to Material Surface Treatment - Development of Plasma Chip -"Hyoumen-gijyutu. 52-12. 841-842 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T. Ito, T. Izaki, and K. Terashima: "APPLICATION OF MICROSCALE PLASMA TO MATERIAL PROCESSING"Thin Solid Films. 386. 300-304 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T. Ito and K. Terashima: "Multiple Microscale Plasma CVD Apparatus on a Substrate"Thin Solid Films. 390. 234-236 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T. Ito and K. Terashima: "Development of plasma chip"Surface and Coating Technology. 133-134. 497-500 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2001 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Ito, T.Izaki, K.Terashima: "APPLICATION OF MICROSCALE PLASMA TO MATERIAL PROCESSING"Thin Solid Films. 386. 300-304 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] T.Ito, K.Terashima: "Mulutiple Microscale Plasma CVD Apparatuses on a Substrate"Thin Solid Films. 390. 234-236 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] 寺嶋和夫: "メゾ空間プラズマの材料表面処理への利用-プラズマチップ(集積プラズマプロセスデバイス装置)を例にして-"表面技術. 52巻12号. 841-842 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] 伊藤剛仁, 寺嶋和夫: "マイクロメーターからナノ領域での超微細プラズマ発生技術"応用物理学会誌. 70巻・4号. 140-141 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] 寺嶋和夫,伊藤剛仁: "マイクロメータからナノメータ領域のプラズマ生成とその材料科学への応用"プラズマ・核融合学会誌. 76巻・5号. 471-476 (2000)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] T.Ito,T.Izaki,K.Terashima: "Development of plasma chip"Surface and Coating Technology. 133-134. 497-500 (2000)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] 伊藤剛仁,寺嶋和夫: "マイクロメータからナノメータ領域での極微細プラズマ発生技術"応用物理. 70巻・4号(印刷中). (2001)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] T.Ito,K.Terashima: "Multiple Microscale Plasma CVD Apparatus on a Substrate"Thin Solid Films. (印刷中). (2001)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書

URL: 

公開日: 2000-04-01   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi