| 研究課題/領域番号 |
12555197
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 名古屋大学 |
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研究代表者 |
杉村 博之 名古屋大学, 工学研究科, 助教授 (10293656)
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| 研究分担者 |
中桐 伸行 産業技術総合研究所, プログラムマネージャー
井上 泰志 名古屋大学, 環境量子リサイクル研究センター, 助教授 (10252264)
高井 治 名古屋大学, 理工科学総合研究センター, 教授 (40110712)
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| 研究期間 (年度) |
2000 – 2002
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| 研究課題ステータス |
完了 (2002年度)
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| 配分額 *注記 |
12,200千円 (直接経費: 12,200千円)
2002年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
2001年度: 3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
2000年度: 6,900千円 (直接経費: 6,900千円)
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| キーワード | リソグラフィ / 微細加工 / 真空紫外光 / 自己組織化単分子膜 / 原子間力顕微鏡 / ナノプローブ描画 / 表面電位 / 単分子膜レジスト / 有機シラン / 光リソグラフィ / レーザーリソグラフィ / ナノリソグラフィ / 走査型プローブ顕微鏡 / 有機薄膜 / レジスト |
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| 研究概要 |
本研究課題では、有機シラン単分子膜をレジスト材料に用いて、光リソグラフィとナノプローブ・リソグラフィを有機的に統合し、高スループットの複合ナノリソグラフィを開発することを目的と、以下の研究成果を得た。
(1)光露光システムの開発・試作
波長172nmのエキシマランプ光を用いて、有機シラン単分子膜露光を行う露光システムを試作し、その機能を確認した。1μmのライン&スペースパターンを単分子膜上に転写することに成功した。
(2)光露光パターンの潜像観察
光露光された単分子膜上のパターンを非破壊で高分解能観察する技術を開発した。具体的には、非接触原子間力顕微鏡を用いた表面電位検出による。100nm以下の高解像度で露光パターンを観察できるだけでなく、検出された電位の大きさから、露光の程度(完全露光かそうで無いか)をあるていど判断できるようになった。
(3)ナノプローブ描画
原子間力顕微鏡を使用し、ナノプローブの位置を制御し局所的に電流を注入することで、有機シラン単分子膜をパターニングできるようになった。最小線幅20nmの描画に成功した。
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