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pHタイトレーションを用いた補綴材料への口腔内細菌の吸着性および洗浄効果の評価

研究課題

研究課題/領域番号 12771196
研究種目

奨励研究(A)

配分区分補助金
研究分野 補綴理工系歯学
研究機関東京歯科大学

研究代表者

三宅 菜穂子  東京歯科大学, 歯学部, 助手 (40276978)

研究期間 (年度) 2000 – 2001
研究課題ステータス 完了 (2001年度)
配分額 *注記
1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
2001年度: 600千円 (直接経費: 600千円)
2000年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
キーワードゼータ電位 / 吸着 / 口腔内細菌 / 補綴材料
研究概要

これまで申請者は補綴材料表面に対する口腔内細菌の吸着の機序を明らかにすることを目的とし,口腔内細菌と補綴材料の界面化学的性質をゼータ電位の測定によって調べ,補綴材料への吸着実験によって,界面における口腔内細菌の初期挙動を明らかにしそれぞれのゼータ電位の所見との関連を考察してきた。今年度は高い審美性と優れた耐久性のために多くの改良がなされ,開発されてきた歯冠用硬質レジンについてゼータ電位の測定を行うことにした.
<方法>
被験材料には歯冠用硬質レジン(エナメル)6種(アートグラス,エステニア,エプリコード,セシードII,デントカラーシリウス,ベルグラス)を使用した.大きさ25×50×3mmの材料プレートを耐水研磨紙#1200で平面を仕上げた後,蒸留水で洗浄してから実験に用いた.
ゼータ電位は平板状材料の表面電位が測定可能な電気泳動光散乱光度計(ELS-800大塚電子社製)を用いた。測定に際しては材料と相互作用をもたないモニター粒子として,ポリスチレンラテックスをヒドロキシプロピルセルロースコーティングしたものを使用し,pH7.0のリン酸緩衝生理食塩液に懸濁させ測定した.
<結果と考察>
歯冠用硬質レジンのゼータ電位は-13mVを示したセシードIIを除いていずれの材料も-20mV前後であった.
今回測定した歯冠用硬質レジンは各材料間でゼータ電位に大きな差が認められなかった.これらの歯冠用硬質レジンは同様な静電的性質をもっていると考えられ,モノマーやフィラーなどの組成とゼータ電位との関連性を明らかにできなかった.

報告書

(2件)
  • 2001 実績報告書
  • 2000 実績報告書

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公開日: 2000-04-01   更新日: 2016-04-21  

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