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高気圧ガスアブレーション成膜技術の可能性研究

研究課題

研究課題/領域番号 12875008
研究種目

萌芽的研究

配分区分補助金
研究分野 表面界面物性
研究機関東洋大学

研究代表者

吉田 善一  東洋大学, 工学部, 教授 (50273032)

研究期間 (年度) 2000
研究課題ステータス 完了 (2000年度)
配分額 *注記
2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
2000年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
キーワード薄膜形成 / レーザー / アブレーション / 二酸化炭素ガス / ドライアイス / 樹脂 / 高気圧
研究概要

本研究はレーザを用いた新しい薄膜形成技術の可能性を見極めるものである。高密度ガスに高密度レーザ光を吸収させプラズマ状態にして、超音速で膨張する衝撃波を発生させる。レーザ光によりガス分子は解離や励起すると同時に衝撃波駆動の高速粒子が対向する基板に飛来し、緻密で高純度の薄膜が形成されると考えられる。この薄膜形成技術をガスアブレーション成膜法と名づけた。ここでは可能性を見出すため高密度ガスにレーザを照射する高気圧チャンバーを作製し、炭素を含むガスアブレーションにより、カーボン薄膜が形成されるかどうかの確認をおこなった。
二酸化炭素ガス、ドライアイス、樹脂蒸気を用いて、高気圧チャンバー法でカーボン薄膜の形成を試みた。光源にはKrFエキシマレーザを用いた。以下にその結果を示す。
(1)二酸化炭素ガスを用いた場合、4気圧、焦点エネルギー密度1J/cm^2、10Hz、300秒照射したがガラス基板上での膜の形成は確認できなかった。
(2)ドライアイスを用いた場合、(1)と同様の条件でドライアイスの蒸気及びドライアイスに直接レーザーを照射したが膜の形成は確認できなかった。
(3)樹脂蒸気を用いた場合、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンをそれぞれチャンバー内の坩堝で蒸発させると同時にチャンバー全体を加熱して、2気圧、0.6J/cm^2、10Hz、300秒照射でポリイミド蒸気で透明な薄膜の形成が確認できた。
今後、形成膜の構造分析(膜厚測定、X線解析法、走査トンネル顕微鏡)をおこないたい。

報告書

(1件)
  • 2000 実績報告書

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公開日: 2000-04-01   更新日: 2016-04-21  

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