| 研究課題/領域番号 |
13450299
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
材料加工・処理
|
|---|
| 研究機関 | 姫路工業大学 |
|---|
研究代表者 |
服部 正 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (70326297)
|
|---|
| 研究分担者 |
銘苅 春隆 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 助手 (30321681)
内海 裕一 姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 助教授 (80326298)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2001 – 2003
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2003年度)
|
| 配分額 *注記 |
15,000千円 (直接経費: 15,000千円)
2003年度: 2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
2002年度: 2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
2001年度: 10,000千円 (直接経費: 10,000千円)
|
|---|
| キーワード | 放射 / LIGA / マイクロマシン / X線マスク / ナノマイクロファブリケーション / マイクロシステム / MEMS / NEMS / 放射光 / ナノ・マイクロファブリケーション / マイクロ・ナノファブリケイション |
|---|
| 研究概要 |
現在のLIGAプロセスは2.5次元形状の構造体が主となっており、任意3次元形状の構造体作製は困難であると言われている。そこで本研究はLIGAプロセスの要でもあるX線マスクの作製プロセスを立ち上げ、LIGAプロセスの任意微細3次元構造体作製への実現性を調査し、最終的にデバイスを作製することを目的として研究を行った。
本研究にて提案した任意3次元構造体の作製手法はX線マスク吸収体の厚みに分布を持たせ、X線透過量を制御する方法である。この方法の検証結果、X線マスク吸収体の厚さによってレジスト加工深さを制御できることを証明した。
また、X線マスク作製法としてフォトレジストに三次元構造を持たせる方法として、溶解度特性の異なる2種類のフォトレジストを用いることにより、傾斜のついた構造体の作製が可能であることを実証した。この方法は非常に簡単に作製でき、今後の任意三次元構造作製に大きく進展した。
次に、ホットエンボッシング成形実験では、高い成形精度と短い成形所要時間を両立するホットエンボッシング成形の最適条件を得ることができた。このような基礎的知見を得ると同時に、φ60μm、アスペクト比1の円柱型微細構造体を持つ、33mm角の大面積微細ホットエンボッシング成形技術を確立した。
これらの技術により、LCD用ライティングパネルの導光板に応用した33mm角、パターン径50μmのテーパー角45°の導光板を作製した。
その結果、従来構造の導光板に対して2倍以上の光効率が得られた。
|
