強磁場による金属蒸着膜の結晶配向制御

• 研究課題/領域番号: 13450306
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 金属生産工学
• 研究機関: 名古屋大学
• 研究代表者: 浅井 滋生 名大, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (80023274)
• 研究期間 (年度): 2001
• 研究課題ステータス: 完了 (2001年度)
• 配分額: 14,200千円 (直接経費: 14,200千円); 2001年度: 14,200千円 (直接経費: 14,200千円)