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光触媒TiO_2スパッタ薄膜の可視光反応化に関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 13480176
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 環境保全
研究機関富山大学

研究代表者

高橋 隆一  富山大学, 工学部, 助教授 (80019223)

研究分担者 升方 勝己 (升方 勝巳)  富山大学, 工学部, 教授 (80157198)
研究期間 (年度) 2001 – 2002
研究課題ステータス 完了 (2002年度)
配分額 *注記
6,900千円 (直接経費: 6,900千円)
2002年度: 2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
2001年度: 4,600千円 (直接経費: 4,600千円)
キーワードスパッタ / 二層膜 / 光触媒 / 環境材料 / 可視光反応 / 光半導体 / 電気化学 / 殺菌作用 / 薄膜
研究概要

1.TiO_2形成膜はX線回折、ラマン分光法よりアナターゼ型結晶構造をもち、基板がプラズマに近づくにつれ、A(220)面の回折ピークが大きくなることが示された。プラズマに近い位置では薄膜は高速で形成できるが、表面の粗さは大きく、やや白濁しており、透過率は長波長領域でなだらかに減少することが確認された。本実験では、基板をプラズマに曝すことで、プラズマの輻射熱により、適度なアニール効果がもたらされアナターゼ結晶が形成されること、荷電粒子の衝撃により格子欠陥が形成され可視光を吸収できること、そしてポーラスな表面の薄膜を形成できること、など、プラズマによりTiO_2膜の構造・特性を制御できることを明らかにした。
2.次に、高周波マグネトロンスパッタ装置を用いてWO_3薄膜を形成し、その結晶構造、表面形態並びに光学特性を調べた。WO_3形成膜はX線回折の測定より、単斜晶型の結晶構造をもち、薄膜形成時のスパッタガス圧の変化により結晶の基板配向性に著しい差異が生じた。スパッタガス圧が高くなるほど、灰色の金属色から黄色、更に薄黄色と変化し、形成膜の色調が、スパッタガス圧に依存することが確認された。形成膜の透過率はスパッタガス圧に依存し、ガス圧が低くなるほど、長波長領域でなだらかに減少し、光吸収端が可視光にシフトすることが確認された。
3.TiO_2/WO_3二層膜を形成し、その赤外分光特性の測定からメタノールガスの分解実験の評価を行った。WO_3膜を下地層とした二層化により、メタノールガス中の酸化炭素の分解時間が速くなることが明らかにされた。WO_3膜の光透過率特性が良好な膜ほど、メタノールガスの分解時間が短縮され、可視光照射130分後でTiO_2単層膜の場合に比べ、約2倍程度短縮され、光触媒効果において可視光が有効に利用されていることが示された。

報告書

(3件)
  • 2002 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2001 実績報告書
  • 研究成果

    (22件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (22件)

  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Atomic Force Microscopy Observation of TiO_2 Films Deposited by dc Reactive Sputtering"Journal of Vacuum Science and Technology A. Vol.20 No.4. 1205-1209 (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Effects of Plasma Exposure on Structural and Optical Properties of TiO_2 Films Deposited by Facing Targets Sputtering"Journal of Vacuum Science and Technology A. Vol.20 No.6. 1916-1920 (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Dependence of Working Gas Pressure and Ratio of Ar to O_2 On Properties of TiO_2 Films Deposited by Facing Targets Sputtering"Thin Solid Films. Vol.420-421. 433-437 (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Influence of Working gas presure on Structure and Optical Properties of WO_3 Films Reactively Deposited by RF Magnetron Sputtering"Journal of Vacuum Science and Technology A. (to be published). (2003)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Photocatalytic Properties of TiO_2/WO_3 Bilayers Deposited by Reactive Sputtering"Journal of Vacuum Science and Technology A. (to be published). (2003)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Raman Spectroscopy Measurement of TiO_2 Sputtered Films Changing Degree of Plasma Exposure"Journal of Vacuum Science and Technology A. (to be published). (2003)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Takahashi, H.Nakabayashi, T.Terasawa and K.Masugata: "Atomic Force Microscopy Observation of TiO_2 Films Deposited by dc Reactive Sputtering."Journal of Vacuum Science and Technology A. 20, No.4. 1205-1209 (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Takahashi, H.Nakabayashi and W.Mizuno: "Effects of Plasma Exposure on Structural and Optical Properties of TiO_2 Films Deposited by Off-axis Target Sputtering."Journal of Vacuum Science and Technology A. 20, No.6. 1916-1920 (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Takahashi and H.Nakabayashi: "Dependence of Working Gas Pressure and Ratio of Ar to O_2 On Properties of TiO_2 Films Deposited by Facing Targets Sputtering."Thin Solid Films. 420-421. 433-437 (2002)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Takahashi, J.Tanabe, H.Nakabayashi and N.Yamada: "Influence of Working gas presure on Structure and Optical Properties of WO_3 Films Reactively Deposited by RF Magnetron Sputtering."Journal of Vacuum Science and Technology A, to be published. (2003)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Takahashi, H.Nakabayashi, J.Tanabe and N.Yamada: "PhotocataJytic Properties of TiO_2/WO_3 Bilayers Deposited by Reactive Sputtering."Journal of Vacuum Science and Technology A, to be published. (2003)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Takahashi, H.Nakabayashi, J.Tanabe, N. Yamada and W.Mizuno: "Raman Spectroscopy Measurement of TiO_2 Sputtered Films Changing Degree of Plasma Exposure."Journal of Vacuum Science and Technology A, to be published. (2003)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Atomic Force Microscopy Observation of TiO_2 Films Deposited by dc Reactive Sputtering"Journal of Vacuum Science and Technology A. Vol.20 No.4. 1205-1209 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Effects of Plasma Exposure on Structural and Optical Properties of TiO_2 Films Deposited by Facing Targets Sputtering"Journal of Vacuum Science and Technology A. Vol.20 No.6. 1916-1920 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Dependence of Working Gas Pressure and Ratio of Ar to O_2 On Properties of TiO_2 Films Deposited by Facing Targets Sputtering"Thin Solid Films. Vol.420-421. 433-437 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Influence of Working gas presure on Structure and Optical Properties of WO_3 Films Reactively Deposited by RF Magnetron Sputtering"Journal of Vacuum Science and Technology A. (to be published). (2003)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Photocatalytic Properties of TiO_2/WO_3 Bilayers Deposited by Reactive Sputtering"Journal of Vacuum Science and Technology A. (to be published). (2003)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Raman Spectroscopy Measurement of TiO_2 Sputtered Films Changing Degree of Plasma Exposure"Journal of Vacuum Science and Technology A. (to be published). (2003)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Atomic Force Microscopy Observation of TiO_2 Films Deposited by dc Reactive Sputtering"Abstracts of IUVSTA 15th International Vacuum Congress-11^<th> International Conference on Solid Surfaces(AVS 48th International Symposium). 64 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Effects of Plasma Exposure on Structural and Optical Properties of TiO_2 Films Deposited by Facing Targets Sputtering"Abstracts of IUVSTA 15th International Vacuum Congress-11^<th> International Conference on Solid Surfaces(AVS 48th International Symposium). 264 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] Kazuhito Takao: "Characteristics of Ion Beams Produced in a Plasma Focus Device"Japanese Journal of Applied Physics. Vol.40, No.2B. 1013-1015 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Dependence of Working Gas Pressure and Ratio of Ar to O_2 on Properties of TiO_2 Films Deposited by Facing Targets Sputtering,"The International Conference On Metallurgical Coatings And Thin Films (ICMCTF 2002). (to be presented). (2002)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書

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公開日: 2001-04-01   更新日: 2016-04-21  

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