| 研究課題/領域番号 |
13555009
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
応用光学・量子光工学
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| 研究機関 | 筑波大学 |
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研究代表者 |
谷田貝 豊彦 筑波大学, 物理工学系, 教授 (90087445)
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| 研究分担者 |
伊藤 雅英 筑波大学, 物理工学系, 助教授 (30150874)
原田 建治 筑波大学, 物理工学系, 講師 (30312820)
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| 研究期間 (年度) |
2001 – 2002
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| 研究課題ステータス |
完了 (2002年度)
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| 配分額 *注記 |
12,400千円 (直接経費: 12,400千円)
2002年度: 3,900千円 (直接経費: 3,900千円)
2001年度: 8,500千円 (直接経費: 8,500千円)
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| キーワード | ホログラム / 表面レリーフ / 回折光学素子 / アゾベンゼン / 光異性化 / コロナ帯電 |
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| 研究概要 |
アゾベンゼン高分子は吸収波長の光を照射することで分子がトランス体からシス体への異性化する代表的な材料である。光異性化により吸光度や屈折率が変化するため、光記録材料として注目されている。特にアゾ基を側鎖に持つポリマーは、吸収波長のレーザー光を照射することにより表面レリーフグレーティングが簡単に作製できることが知られており、そのメカニズム解明や、ホログラム記録材料としての応用が期待されている。この表面レリーフグレーティングはサンプルをガラス転移温度付近に加熱することにより消去することができる。また、表面レリーフグレーティングに加熱しながらコロナ帯電させることで、逆にレリーフの深さを増大することができる。これを利用することにより、回折効率を自由に制御できる全く新しい可逆ホログラム記録材料としての応用が期待される。
ここでは、アゾベンゼン高分子材料を用いた表面レリーフ型のホログラムの作製や、回折効率の制御についての研究を行った。その結果、アゾベンゼン高分子の光照射による表面レリーフ形成を利用して、フーリエ変換型およびフレネル型ホログラムの記録できることを確認した。また、ガラス転移温度付近への加熱によりレリーフを消去でき、またコロナ帯電を利用することによりレリーフ深さを増加できることを見いだした。コロナ帯電の電圧調整や、均一光照射により回折効率を制御できることから、今までにない新しいホログラム記録材料としての応用が可能である。
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