| 研究分担者 |
山口 義幸 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助手 (10244419)
村上 和彦 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助手 (00281692)
水沼 博 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (20117724)
賀羽 常道 (株)司測研, 圧力バイオ研究室, 室長(研究職)
星野 大輔 東京都立大学, 大学院・工学研究科, 助手 (80106616)
山口 元 東京都立大学, 工学研究科, 助教授 (00087181)
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| 配分額 *注記 |
13,500千円 (直接経費: 13,500千円)
2003年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
2002年度: 3,200千円 (直接経費: 3,200千円)
2001年度: 8,900千円 (直接経費: 8,900千円)
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| 研究概要 |
機械技術は,高度成長期の重工業重視の時代を経て,電子細な技術であるマイクロマシン技術の開発が望まれている.技術と融合した機械情報産業へと重心が移り,より軽量・微細な技術であるマイクロマシン技術の開発が望まれている.本研究では、分子流制御装置ロータ翼面上へのカーボン真空蒸着について実験的・数値的研究を行った。その結果、実験的には複数回繰返し蒸着によって,膜厚が大きくなるため,蒸着距離を長くなる必要がある.しかし,蒸着距離が大きくなるとともに成膜量が減少してしまう.反射率は変化しなくなるが透過率が減少していくため吸収率は大きくなり,蒸着膜表面温度も高くなった.DSMC法によるコンピュータシミュレーションによると試料到達粒子数の合計は実験値,数値計算結果に対して定性的には非常によい結果を得た.ただし,計算モデルである1/4モデルは試料到達粒子数から問題がないが,試料上のカーボン粒子分布については他のモデルを試みる必要がある.また、軸制御機構を有するフェライト永久磁石分子流制御装置では、回転中にロータが受ける力の不均衡により起こる接触点の増加を減少させ,機構全体のクーロン摩擦を低減することができた.そのために,軸制御機構を有するフェライト永久磁石分子流制御装置は従来のガラスキャップ方式の軸受機構より2.5倍から5.5倍回転数が向上した.
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