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電子デバイス動作下における局所結晶歪みの高平行X線マイクロビームその場測定の研究

研究課題

研究課題/領域番号 13555096
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分展開研究
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関姫路工業大学

研究代表者

松井 純爾  姫路工業大学, 大学院・理学研究科, 教授 (10295751)

研究分担者 篭島 靖  姫路工業大学, 大学院・理学研究科, 助教授 (10224370)
津坂 佳幸  姫路工業大学, 大学院・理学研究科, 助手 (20270473)
木村 滋  (財)高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 主幹研究員 (50360821)
研究期間 (年度) 2001 – 2003
研究課題ステータス 完了 (2003年度)
配分額 *注記
13,800千円 (直接経費: 13,800千円)
2003年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
2002年度: 1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
2001年度: 10,700千円 (直接経費: 10,700千円)
キーワード半導体基板 / 格子歪み / X線マイクロビーム / 放射光 / デバイス特性 / LED / 半導体レーザー / SOI結晶 / 非対称ブラッグ反射 / 円筒ミラー / ゾーンプレート / SOI / 薄膜 / 局所歪み / 電子デバイス / X線 / マイクロビーム / その場測定
研究概要

シリコン、砒化ガリウム単結晶中の格子歪みは、不純物拡散などのデバイスプロセス中に転位等の結晶欠陥を発生源となり、LED,トランジスタ等電子デバイスの特性の劣化や素子寿命の短縮化を招くことが知られている。このような微小な格子歪みの検出にはX線回折法が最適であるが、実験室X線源は試料への入射ビームのサイズが大きいので、格子歪みは照射領域内の平均的な値しか得られず、またビームの平行性が悪いのでΔd/d〓10^<-4>以下の歪みを高感度に検出するのは困難である。
本研究では、放射光(SPring-8)を光源とし。単結晶の非対称反射あるいは反射と楕円ミラーとの組み合わせにより、高平行かつμmサイズのX線マイクロビームを形成した。これを試料表面上で走査することにより、高位置分解能かつ高歪み感度で試料結晶の格子歪みを検出することを試みた。また、電子デバイス、例えばLEDなどを電気的に動作させながら上記の格子歪みを測定し、実際に電流値を時間的に増加させたときに、格子歪みがどのように変化するかについての知見を得た。
また、このX線マイクロビームを使って、次世代高密度素子あるいはパワーデバイス用半導体基板として注目されているSOI、SiGe結晶層の格子歪みを評価した結果、これらの結晶には数十〜数百秒にもおよぶ格子面傾斜などが数μm〜数十μmの周期で存在していることが判明し、高キャリア移動として注目を浴びている歪みSi結晶を含めて、格子歪みのより詳細な調査が将来とも重要な課題であることを指摘している。

報告書

(4件)
  • 2003 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2002 実績報告書
  • 2001 実績報告書
  • 研究成果

    (43件)

すべて 2003 2002 2001 その他

すべて 雑誌論文 (18件) 図書 (8件) 文献書誌 (17件)

  • [雑誌論文] Measurement of Minute Local Strain in Semiconductor Material and Electronic Devices by Using a Highly-Parallel X-ray Microbeam2003

    • 著者名/発表者名
      J.Matsui, Y.Tsusaka, K.Yokoyama, S Takeda, M.Katou, H.Kurihara, K.Watanabe, Y.Kagoshima, S.Kimura
    • 雑誌名

      Nucl. Instrum. & Methods B199

      ページ: 15-18

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Estimation of Bonded Silicon-on-Insulator Wafers by Means of Diffractometry Using a Parallel X-Ray Microbeam2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Tsusaka, M.Urakawa, K.Yokoyama, S.Takeda, M.Katou, H.Kurihara, F.Yoshida, K.Watanabe, Y.Kagoshima, J.Matsui
    • 雑誌名

      Nucl. Instrum. & Methods B199

      ページ: 19-22

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Measurement of Minute Local Strain in Semiconductor Materials and Electronic Devices by Using a Highly Parallel X-ray Microbeam2003

    • 著者名/発表者名
      J.Matsui, Y.Tsusaka, K.Yokoyama, S.Takeda, M.Katou, H.Kurihara, K.Watanabe, Y.Kagoshima, S.Kimura
    • 雑誌名

      Nucl.Instrum.& Methods B199

      ページ: 15-18

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Estimation of Bonded Silicon-on-Insulator Wafers by Means of Diffractometry Using a Parallel X-Ray Microbeam2003

    • 著者名/発表者名
      Y.Tsusaka, M.Urakawa, K.Yokoyama, S.Takeda, M.Katou, H.Kurihara, F.Yoshida, K.Watanabe, Y.Kagoshima, J.Matsui
    • 雑誌名

      Nucl.Instrum.& Methods B199

      ページ: 19-22

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Measurement of Strain Distribution in InGaAsP Selective-Area Growth Layers Using a Micro-Area X-ray Diffraction Method with a Sub-mm Spatial Resolution2002

    • 著者名/発表者名
      S.Kimura, Y.Kagoshima, K.Kobayashi, K.Izumi, Y.Sakata, S.Sudo, K.Yokoyama, T.Niimi, Y.Tsusaka, J.Matsui
    • 雑誌名

      Japan. J. Appl. Phys. 41

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Evaluation of Lattice Strain In Silicon Substrate Beneath Aluminum Conductor Film Using High-Resolution X-Ray Microbeam Diffactometry2002

    • 著者名/発表者名
      K.Yokoyama, H.Kurihara, S.Takeda, M.Urakawa, K.Watanabe, M.Katou, N.Inoue, N.Miyamoto, Y.Tsusaka, Y.Kagoshima, J.Matsui
    • 雑誌名

      Japan. J. Appl. Phys. 41

      ページ: 6094-6097

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Microscopic strain Analysis of Semiconductor Crystals Using a Synchrotron X-ray Microbeam2002

    • 著者名/発表者名
      J.Matsui, Y.Tsusaka, K.Yokoyama, S.Takeda, M.Urakawa, Y.Kagoshima, S.Kimura
    • 雑誌名

      J. Crystal Growth 237-239

      ページ: 317-323

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Measurement of Strain Distribution in InGaAsP Selective-Area Growth Layers Using a Micro-Area X-ray Diffraction Method with a Sub-mm Spatial Resolution2002

    • 著者名/発表者名
      S.Kimura, Y.Kagoshima, K.Kobayashi, K.Izumi, Y.Sakata, S.Sudo, K.Yokoyama, T.Niimi, Y.Tsusaka, J.Matsui
    • 雑誌名

      Japan.J.Appl.Phys. 41

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Evaluation of Lattice Strain in Silicon Substrate Beneath Alminum Conductor Film Using High-Resolution X-Ray Microbeam Diffractometry2002

    • 著者名/発表者名
      K.Yokoyama, H.Kurihara, S.Takeda, M.Yrakawa, K.Watanabe, M.Katou, N.Inoue, N.Miyamoto, Y.Tsusaka, Y.Kagoshima, J.Matsui
    • 雑誌名

      Japan.J.Appl.Phys. 41

      ページ: 6094-6097

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Microscopic Strain Analysis of Semiconductor Crystals Using a Synchrotron X-ray Microbeam2002

    • 著者名/発表者名
      J.Matsui, Y.Tsusaka, K.Yokoyama, S.Takeda, M.Urakawa, Y.Kagoshima, S.Kimura
    • 雑誌名

      J.Crystal Growth 237-239

      ページ: 317-323

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Hyogo Beamline at Spring-8 : Multiple Station Beamline with the TROIKA concept2001

    • 著者名/発表者名
      Y.Tsusaka, K.Yokoyama, K.Takai, S.Takeda, Y.Kagoshima, J.Matusi
    • 雑誌名

      Nucl. Instrum & Methods A467-468

      ページ: 670-673

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Rocking Curve Measurement of Infrared LEDs Using Highly Parallel X-ray Microbeam2001

    • 著者名/発表者名
      S.Takeda, K.Yokoyama, M.Urakawa, T.Ibuki, K.Takai, Y.Tsusaka, Y.Kagoshima, J.Matsui, N.Miyamoto
    • 雑誌名

      Nucl. Instrum & Methods A467-468

      ページ: 974-977

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Study of Local Strain Distribution in Semiconductor Devices Using High-Resolution X-ray Microbeam Diffractometry2001

    • 著者名/発表者名
      K.Yokoyama, S Takeda, M.Urakawa, Y.Tsusaka, Y.Kagoshima, J.Matsui, S.Kimura, H.Kimura, K.Kobayashi, T.Ohhira, K.Izumi, J.Matsui
    • 雑誌名

      Nucl. Instrum & Methods A467-468

      ページ: 1205-1208

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] X-ray Phase-Contrast Imaging with submicron Resolution by Using Extremel Asymmetric Bragg Diffractions2001

    • 著者名/発表者名
      K.Kobayashi, K.Izumi, H.Kimura, S.Kimura, T.Ibuki, K.Yokoyama, Y.Tsusaka, Y.Kagosima, J.Matsui
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Letters 78

      ページ: 132-134

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Hyogo Beamline at SPring-8: Multiple Station Beamline with the TROIKA Concept2001

    • 著者名/発表者名
      Y.Tsusaka, K.Yokoyama, K.Takai, S.Takeda, Y.Kagoshima, J.Matsui
    • 雑誌名

      Nucl.Instrum & Methods A467-468

      ページ: 670-673

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Rocking Curve Measurement of Infrared LEDs Using Highly Parallel X-ray Microbeam2001

    • 著者名/発表者名
      S.Takeda, K.Yokoyama, M.Urakawa, T.Ibuki, K.Takai, T.Tsusaka, Y.Kagoshima, J.Matsui, N.Miyamoto
    • 雑誌名

      Nucl.Instrum & Methods A467-468

      ページ: 974-977

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Study of Local Strain Distribution in Semiconductor Devices Using High-Resolution X-ray Microbeam Diffractometry2001

    • 著者名/発表者名
      K.Yokoyama, S.Takeda, M.Urakawa, Y.Tsusaka, Y.Kagoshima, J.Matsui, S.Kimura, H.Kimura, K.Kobayashi, T.Ohhira, K.Izumi, N.Miyamoto
    • 雑誌名

      Nucl.Instrum & Methods A467-468

      ページ: 1205-1208

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] X-ray Phase-Contrast Imaging with Submicron Resolution by Using Extremely Asymmetric Bragg Diffractions2001

    • 著者名/発表者名
      K.Kobayashi, K.Izumi, H.Kimura, S.Kimura, T.Ibuki, K.Yokoyama, Y.Tsusaka, Y.Kagoshima, J.Matsui
    • 雑誌名

      Appl.Phys.Letters 78

      ページ: 132-134

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [図書] X線マイクロビームを用いた局所領域微量ひずみの検出2003

    • 著者名/発表者名
      松井純爾, 篭島靖, 津坂佳幸, 木村滋
    • 出版者
      応用物理学会
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [図書] 薄膜作製応用ハンドブック(分筆;薄膜のX線評価)2003

    • 著者名/発表者名
      松井純爾
    • 出版者
      エヌ・ティー・エス
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [図書] イオン工学ハンドブック(分筆;シンクロトロン放射光利用結晶評価技術)2003

    • 著者名/発表者名
      松井純爾
    • 出版者
      イオン工学研究所
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [図書] 放射光の威力-X線マイクロビーム測定を中心に-2003

    • 著者名/発表者名
      松井純爾
    • 出版者
      応用物理学会
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [図書] SPring-^8 シンクロトロンX線源2002

    • 著者名/発表者名
      松井純爾
    • 出版者
      日本写真学会
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [図書] 高分解能マイクロビームX線回折法による半導体レーザー素子の評価2002

    • 著者名/発表者名
      木村 滋, 津坂佳幸, 松井純爾
    • 出版者
      (株)アグネ技術センター
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [図書] 第135回 X線材料強度部門委員会資料2001

    • 著者名/発表者名
      松井純爾, 篭島靖, 津坂佳幸, 横山和司
    • 出版者
      日本材料学会
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [図書] 第145回委員会研究会資料2001

    • 著者名/発表者名
      松井純爾, 篭島靖, 津坂佳幸, 横山和司
    • 出版者
      日本学術振興会
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2003 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] J.Matsui et al.: "Measurement of Minute Local Strain in Semiconductor Materials and Electronic Devices by Using a Highly Parallel X-Ray Microbeam"Nucl.Instr.& Meth.In Phys.Res.B. 199. 15-18 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Tsusaka et al.: "Estimation of bonded silicon-on-insulator wafers by means of diffractometry using a parallel X-ray microbeam"Nucl.Instr.& Meth.In Phys.Res.B. 199. 19-22 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] 松井純爾 他: "X線マイクロビームを用いた局所領域微量ひずみの検出"応用物理. 72. 557-564 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Kagoshima et al.: "Hard X-ray phase-contrast microscope for observing transparent specimens"J.Phys IV France. 104. 49-52 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] 松井 純爾: "薄膜作製応用ハンドブック"(株)エヌ・ティー・エス. 11 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] 松井 純爾: "応用物理学会結晶工学分科会年末講演会テキスト"(財)応用物理学会. 5 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] S.Kimura et al.: "Measurement of Strain Distribution in InGaAsP Selective-Area Growth Layers Using a Micro-Area X-Ray Diffraction Method with a Sub-mm Resolut^n"Jpn.J.Appl.Phys.. 41. L1013-L1015 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] J.Matsui et al.: "Measurement of Minute Local Strain in Semiconductor Materials and Electronic Devices by Using a Highly Parallel X-Ray Microbeam"Nucl.Instr. & Meth.In Phys.Res.B. 199. 15-18 (2003)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Tsusaka et al.: "Estimation of Bonded Silicon-on-Instulator Wafers by Means of Diffractometry Using a Parallel X-Ray Microbeam"Nucl.Instr. & Meth.In Phys.Res.B. 199. 19-22 (2003)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] J.Matsui et al.: "Microscopic Strain Analysis of Semiconductor Crystals Using a Synchrotron X-Ray Microbeam"J.Crystal Growth. 237-239. 317-323 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Kagoshima et al.: "High-Resolution Hard X-Ray Phase-Contrast Microscopy with a Large-Diameter and High-Numerical-Aperture Zone Plate"J.Synchrotron Radiation. 9. 132-135 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] 松井 純爾: "イオン工学ハンドブック"エヌ・ティー・エス. 7 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] J.Matsui, Y.Tsusaka, K.Kagoshima, et al.: "Measurement of Minute Strain in Semiconductor Materials and Electronic Devices by Using a Highly Parallel X-ray Microbeam"Proc. Third Int'l Conf. on Synchro from Radiation in material science. 76 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] J.Matsui, Y.Tsusaka, K.Kagoshima, et al.: "Local Strain Measurement by Synchrotron X-ray Microbeam"Proc. Cryst. Defects and Contamination (DECON2001). 25 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] S.Takeda, K.Yokoyama, et al.: "Rocking Curve Measurement J Infrared LEDs Using Highly parallel X-ray microbeam"Nuclear Instruments and Methods in Phys. Res.. A467-468. 974-977 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Tsusaka, K.Yokoyama, et al.: "Hyogo Beamline at SPring-8 : Multiple Station Beamline with TROIKA concept"Nuclear Instrumets and Methods in Phys. Res.. A467-468. 670-673 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書
  • [文献書誌] K.Yokoyama, S.Takeda, et al.: "Study of Local Strain Distribution in Semiconductor Devices Using High-Resolution X-ray Microbeam Diffractometry"Nuclear Instrumets and Methods in Phys. Res.. A467-468. 1205-1208 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書

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公開日: 2001-04-01   更新日: 2016-04-21  

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