| 研究課題/領域番号 |
13555242
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
無機工業化学
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| 研究機関 | 大阪府立大学 |
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研究代表者 |
南 努 大阪府立大学, 学長 (80081313)
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| 研究分担者 |
松田 厚範 豊橋技術科学大学, 物質工学系, 助教授 (70295723)
忠永 清治 大阪府立大学, 工学研究科, 助教授 (90244657)
辰巳砂 昌弘 大阪府立大学, 工学研究科, 教授 (50137238)
仲間 健一 日本板硝子株式会社, 技術研究所, 主任
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| 研究期間 (年度) |
2001 – 2002
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| 研究課題ステータス |
完了 (2002年度)
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| 配分額 *注記 |
13,200千円 (直接経費: 13,200千円)
2002年度: 5,700千円 (直接経費: 5,700千円)
2001年度: 7,500千円 (直接経費: 7,500千円)
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| キーワード | ゾル-ゲル法 / 高屈折率 / 透明 / 厚膜 / 微細パターン / 無機-有機複合 / 光照射 / マイクロレンズ / ゾルーゲル法 |
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| 研究概要 |
本研究では、以下の研究成果を得た。
1.高屈折率透明厚膜材料開発とキャラクタリゼーション
フェニルトリエトキシシラン、ベンジルトリエトキシシランなどを出発原料に用いて種々のシルセスキオキサン-金属酸化物系厚膜を作製した。検討を行った中で酸化物としてチタニアを加えた場合に、最も屈折率が大きくなることがわかった。さらに、2官能のアルコキシドであるジフェルニルジメトキシシランにチタニアを組み合わせた2成分系膜は、3官能アルコキシドであるフェニルトリメトキシシラン系よりも高い屈折率を示すことがわかった。また、チタニア含量が30%以下では、100℃以上に加熱することによって、粘性が低下し流動性を示すことがわかった。
2.シルセスキオキサン-チタニア系複合体厚膜材料のキャラクタリゼーション
紫外光照射に伴うシルセスキオキサン-チタニア系複合体厚膜材料の構造、組織および光学的性質の変化について検討を行った。複合化したチタニア成分が紫外光を吸収し、シルセスキオキサンのSi-C結合を開裂すると考察した。また、ビニルシルセスキオキサン-チタニア系において最も膜の硬度が大きく上昇することがわかった。
3.高屈折率透明厚膜材料の微細パターニング
ゾル-ゲル成型装置を用いて型プレスを行うエンボス法によって、フェニルシルセスキオキサン-チタニア系高屈折率透明厚膜の微細パターンを転写できることを確認した。
一方、チタニア薄膜表面をフルオロアルキルシランによって撥水処理した表面にフォトマスクを通して紫外光照射を行うと、紫外線照射部のみ親水性になる。これを用いて形成した撥水-親水パターン上にフェニルシスセスキオキサン厚膜を形成し加熱すると、ゲル膜が軟化した際に親水部分に選択的に流動し、液の表面張力によって球面のふくらみ形状を有するマイクロパターンが得られることがわかった。
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