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1.試料の冷却と排気速度の改良
角度分解昇温脱離装置の試料温度を従来の90Kから50Kまでの冷却型にすることに成功した。さらにN_2への排気速度を現在より10倍程度増加し、従来の反応チャンバー中の散乱により生じる分析室シグナルのバックグランド値を5分の1にまでに減少させ、装置の改良は成功した。
2.清浄なRh(110)上のN_2O分解
表面温度60KからN_2O分解によるN_2の放出を確認、5つのN_2の脱離ピークが70-170Kの温度域で生じた。ピーク温度165Kのβ_1-N_2は余弦法則に従い、脱離温度はN_2分子と同じで、N_2O分解後に表面に一度trapされたN_2の脱離と結論。140Kにピークを示すβ_2-N_2と120Kにピークを示すβ_3-N_2は小さいN_2O吸着量では生じないが、吸着量を増すと[001]方向に68度に指向する斜め脱離を示した。吸着量が小さいときから生じるβ_4-N_2(ピークは97K)とβ_5-N_2(同80K)の脱離は[001]方向に68度に指向した。
3.N_2脱離は表面に残存する酸素量に敏感であった。残存酸素量を酸素吸着後の加熱温度で調整した。1000Kまでのflash加熱処理ではN_2Oは分解しない。1100Kまでの前処理ではN_2Oは100-170Kの温度域で分解しN_2を放出。その脱離は鋭<指向角は30度である。LEED観測では表面は再配列(1x2)のmissing-row構造で約30度傾く斜面上の反応と推論した。
4.Rh(110)上のN_2Oの配向と分解を70KでNEXAFS法で検討した。70Kでは一部分解している。吸着量が飽和の半分以上ではほとんどが分子吸着、分子は寝ている構造と立っている構造の混合と結論。
5.比較対照の表面Pd(110)上のN_2OのNEXAFS測定で分子方位の異方性を初めて確認した。
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