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環境考慮型半導体β-FeSi_2の薄膜成長と受発光デバイスへの応用

研究課題

研究課題/領域番号 13650020
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 応用物性・結晶工学
研究機関明治大学

研究代表者

植草 新一郎  明治大学, 理工学部, 教授 (10061970)

研究期間 (年度) 2001 – 2002
研究課題ステータス 完了 (2002年度)
配分額 *注記
800千円 (直接経費: 800千円)
2002年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
キーワード環境半導体 / 無毒 / 太陽電池 / 受発光素子 / OEIC / シリコンベース / β-FeSi_2 / レーザアブレーション / レーザーアブレーション
研究概要

斜方晶のβ-FeSi_2は環境に低負荷で、地球上に豊富に存在する元素からできている。β-FeSi_2は熱電変換素子、受発光素子、太陽電池として応用が期待されている。我々は、レーザアブレーション法でSi基板上にβ-FeSi_2薄膜を堆積させ、その諸特性の評価を行った。
(1)室温でβ-FeSi_2相はなく、400℃以上ではっきりとしたβ-FeSi_2からの回折ピークを確認した。
(2)レーザアブレーション法により作製したSi(111)基板上のβ-FeSi_2は(202)、(220)方向にのみ成長し、単結晶構造だということが分かった。
(3)作製したβ-FeSi_2の組成はFe:Si=30:70でありSiリッチな組成になった。
(4)Si基板内へFeは拡散し室温および500℃のときに拡散量が大きい。
(5)400℃で成膜したとき不純物分布が片側階段接合となることが示された。
(6)20時間以上の熱処理を行った時、β-FeSi_2の半値幅が約50%減少し、結晶性が改善され、βFeSi_2の組成比はストイキオメトリーに近づいた。そして、バンドギャップの増大も起きる。
(7)Feやよび格子欠陥が不純物準位を作り、発光のキラーセンターとして働いていると考えられる。
(8)900℃、40時間のアニーリングサンプルは0.807eVにPLピークが現れているのが分かる。我々が知りうる限りでは、レーザアブレーション法では初めてβ-FeSi_2薄膜からのPL発光を確認した。また、as-depositedサンプルは、Siの欠陥かターゲットに含まれる不純物、およびそれらの複合体からの発光によるピークが得られた。

報告書

(3件)
  • 2002 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2001 実績報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて 2002 2001 その他

すべて 雑誌論文 (4件) 文献書誌 (2件)

  • [雑誌論文] Composition of β-FeSi_2 Thin-Films Grown by a Pulsed Laser Deposition Method2002

    • 著者名/発表者名
      Shin-ichiro Uekusa et al.
    • 雑誌名

      Materials Research Society Symposium Proceedings 744

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Composition of β-FeSi_2 Thin-Films Grown by a Pulsed Laser Deposition Method2002

    • 著者名/発表者名
      S.Uekusa, M.Yamamoto, K.Tsuchiya, N.Miura
    • 雑誌名

      Mat.Res.Soc.Symp.Proc Vol.744

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] β-FeSi_2 thin-films grown by a pulsed laser deposition2001

    • 著者名/発表者名
      Shin-ichiro Uekusa et al.
    • 雑誌名

      Materials Research Society Symposium Proceedings 648

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] β-FeSi_2 thin-films grown by a pulsed laser deposition2001

    • 著者名/発表者名
      S.Uekusa, Y.Watanabe, Y.Aida, N.Miura
    • 雑誌名

      Mat.Res.Soc.Symp.Proc Vol.648

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2002 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Shin-ichiro Uekusa et al.: "Composition of β-FeSi_2 Thin-Films Grown by a Pulsed Laser Deposition Method"Materials Research Society Symposium Proceedings. 744. M5.38.1-M5.38.6 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Shinichiro Uekusa et al.: "β-FeSi_2 thin-films grown by a pulsed laser deposition"Materials Research Society Symposium Proceedings. 648. P.6.34.1-P6.34.6 (2001)

    • 関連する報告書
      2001 実績報告書

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公開日: 2002-04-01   更新日: 2016-04-21  

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