| 研究課題/領域番号 |
13650823
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
反応・分離工学
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| 研究機関 | 北海道大学 |
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研究代表者 |
高橋 憲司 北海道大学, 大学院・工学研究科, 助手 (00216714)
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| 研究期間 (年度) |
2001 – 2002
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| 研究課題ステータス |
完了 (2002年度)
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| 配分額 *注記 |
3,600千円 (直接経費: 3,600千円)
2002年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
2001年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
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| キーワード | 反応速度 / 水和電子 / ヒドロキシラジカル / 溶媒和 / 電子移動 / ヒドロキシルラジカル / イオン対 / 誘電率 / クーロンポテンシャル / 放射線分解 / 水和 / アレニウス / 水素イオン |
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| 研究概要 |
水の臨界温度近傍での水和電子およびOHラジカルの反応速度の温度・圧力依存性を詳細に研究した。反応速度の測定にはパルスラジオリシス法を用いた。時間分解能は約5ナノ秒である。水和電子とニトロベンゼンの反応速度は、ほぼ拡散律速で進行するが、臨界温度近傍では急激に反応速度は遅くなった。また、水和電子と亜酸化窒素の反応は、反応距離依存性を考慮したマーカス型電子移動反応モデルにより説明できた。
OHラジカルと水素との反応速度は、気相での反応速度に比較して約10倍ほど速い。しかし、350℃近傍では、急激に反応速度は遅くなり、気相での値に漸近する。溶媒和を考慮した遷移状態モデルを用い、各温度での反応体の水和エネルギーを計算した結果、気相と水中での反応速度の違いを説明できることが分かった。一方、同様の計算により、OHラジカルとベンゼンとの反応では、350℃近傍でも、気相および水中での反応速度には大きな差があることが判明した。従って、高温気相中の反応速度を高温水へ適用することは、大きな誤差につながる可能性が高い。
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