研究課題/領域番号 |
13650949
|
研究種目 |
基盤研究(C)
|
配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
高分子構造物性(含繊維)
|
研究機関 | 静岡大学 |
研究代表者 |
稲垣 訓宏 静岡大学, 工学部, 教授 (30022015)
|
研究分担者 |
成島 和男 静岡大学, 工学部, 助手 (40303531)
田坂 茂 静岡大学, 工学部, 教授 (10134793)
|
研究期間 (年度) |
2001 – 2002
|
研究課題ステータス |
完了 (2002年度)
|
配分額 *注記 |
3,500千円 (直接経費: 3,500千円)
2002年度: 700千円 (直接経費: 700千円)
2001年度: 2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
|
キーワード | プリント基板 / 全芳香族ポリマー / 銅メタライジング / 低温プラズマ / 表面改質 / アラミド |
研究概要 |
本研究は、耐熱性が高く、機械的特性も優れている全芳香族ポリマーフィルムをベースフィルムとして次世代のプリント基板を開発をめざしている。本年度は、昨年の研究成果をもとに、ベースフィルムと銅との密着力を向上させるプラズマによる表面処理法の開発を検討した。具体的には、プラズマガスをアルゴン、酸素、窒素、アンモニアの4種を選び、ポリマー表面の改質効果と銅との密着力改善効果を追及した。この4種のプラズマガスの中では、アンモニア、窒素プラズマによる表面改質効果が優れていることをみいだした。この表面改質をほどこすことによって、密着力(ポリマーフィルム/銅間のピール強度)は1kgf/cmの実用レベルに達するまでの改善に成功した。以上の研究成果は、全芳香族ポリマーをベースとする次世代のプリント基板を開発する基礎技術が得られたことになる。本研究の成果は、国際的な学術雑誌であるJournal of Adhesion Science Technology, Journal of Applied Polymer Science誌上で公表すると同時に、高分子学会年次大会、8^<th> IUMRS International Conference on Advanced MaterialsのPolymeric Materials with Controlled Nanostructuresの部門でも口頭発表を予定している。
|