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放射光ホログラフィー法によるマイクロ立体構造体の作成プロセスの確立

研究課題

研究課題/領域番号 13750056
研究種目

若手研究(B)

配分区分補助金
研究分野 応用物理学一般
研究機関姫路工業大学

研究代表者

銘苅 春隆  姫路工業大学, 高度産業科学技術研究所, 助手 (30321681)

研究期間 (年度) 2001 – 2002
研究課題ステータス 完了 (2002年度)
配分額 *注記
2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
2002年度: 400千円 (直接経費: 400千円)
2001年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
キーワードホログラフィー / X線リソグラフィー / LIGAプロセス / 多層膜ミラー / 放射光 / X線マスク / UVSOR / ニュースバル
研究概要

1.ホログラフィックリソグラフィー用X線マスクの再試作
前年度までの露光実験では、X線マスクの吸収体であるAuの厚みが薄すぎたため、回折効果により0次-2次までのパターンがレジスト上に確認できたものの、ホログラフィックな像が確認できるまでには至らなかった。そこでAuの厚みを300nmまで厚く蒸着したX線マスクを作製し、干渉効果により「IMS」の文字が表れるX線マスクを用意した。また実際に単色化した放射光により露光実験を行うビームラインはUVSOR-BL4A1であり、このビームラインではMo/Si多層膜ミラーによって55eV-93eVまでの光が分光できる。計算によると90eVで最大輝度を得ることができるため、X線マスクのパターンも90eVの単色光による露光を想定して設計した。
2.分子科学研究所UVSOR-BL4A1での露光実験
本研究では、UVSOR-BL4A1ビームラインの出力光を光源として、比較的感度の高いZEPポジ型レジスト材を感光させ、X線マスクとしての性能やパターンの精度などを確認する予定であった。ところが本年度前期の露光実験の際に、UVSOR-BL4A1に設置されている多層膜ミラー分光器のミラー角度微調整用インチワームコントローラーが故障し、露光実験の遂行が不可能な状態となった。コントローラーが復旧した本年度後期に再度露光実験を行う予定であったが、次は他のビームラインユーザーの不注意により真空事故が発生し、復旧作業に1ヶ月ほど要した。BL4A1が使用可能になった頃、今度はUVSOR電子蓄積リング内で水漏れ事故が起こり、UVSORの運転が数ヶ月間にわたり停止する事態になった。
3.高度産業科学技術研究所ニュースバルBL7Aでの露光実験
上記のような理由から、ニュースバル放射光施設アンジュレータービームラインBL7Aを利用した露光実験の再開を検討した。今年度後期に性能評価が終了したビームラインである。今後はニュースバルBL7Aでの実験に特化し、除振機能を付加したマスク-レジスト間距離が調整できるBL7A専用の露光ステージを開発し、本研究を続行して行く。

報告書

(2件)
  • 2002 実績報告書
  • 2001 実績報告書

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公開日: 2001-04-01   更新日: 2016-04-21  

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