| 配分額 *注記 |
24,000千円 (直接経費: 24,000千円)
2005年度: 6,400千円 (直接経費: 6,400千円)
2004年度: 6,400千円 (直接経費: 6,400千円)
2003年度: 5,600千円 (直接経費: 5,600千円)
2002年度: 5,600千円 (直接経費: 5,600千円)
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| 研究概要 |
(1)シリルおよびアリール(シリレン)錯体上での1,2-および1,3-転位反応の実験的証明
シリル(シリレン)鉄錯体の合成法を確立し,構造を解明した。さらに,この錯体と一酸化炭素等の2電子配位子との反応を調べ,標記転位反応の存在を示す直接的証拠を得た。同様に,(アリールシリル)タングステン錯体上で,アリール基が配位不飽和中心へ可逆的に1,2-転位し,アリール(シリレン)錯体を生成することを明らかにした。
(2)ヒドリド(ヒドロシリレン)錯体の創製,構造および反応性
カルボニル(メチル)タングステン錯体とかさ高い置換基を持つトリヒドロシランとの封管中での光反応により,CO配位子の解離を経由してシリレン配位子上に水素を持つシリレン錯体およびシリル体を得た。この光反応を脱気と光照射を繰り返しながら行うと,最終的にシリレン錯体のみが得られた。この錯体はタングステン-ケイ素二重結合にヒドリド配位子が架橋した特異な構造をとっていることをX線結晶構造解析およびNMR分光法により明らかにし,さらにDFT計算によって確認した。この錯体はケトン,エノン,ニトリル,オキシランなど様々な極性分子と反応し,前例のない付加反応性生物を与えることを明らかにした。
(3)鉄,ケイ素およびリンからなる三員環錯体と多様な極性分子との反応
カルボニル(ホスフィノシリル)鉄錯体に低温で光照射すると,CO配位子が解離してホスフィノ基が分子内で鉄に配位し,三員環錯体が定量的に生成した。三員環構造を持つホスファシラフェラシクロプロパンは,アルコール,ケトン,ニトリル,ピリジン誘導体等の極性分子と容易に反応し,これらの分子がリン-ケイ素結合に挿入した生成物をほぼ定量的に与えた。
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