| 研究概要 |
インフォメーション・テクノロジー(IT)の急速な国際的発展に伴い,高速・大容量情報処理システムの構築に必要不可欠なフォトニクスデバイスの開発が強く望まれている。一方で,スラグ処理も緊急に解決しなければならない重要な問題となっており,スラグの高度改質,高機能化の要請が高まっている。
本基盤研究(S)では,フォトニクスガラスの光学特性に関する研究室独自の基礎研究によって得られた成果を展開し,ガラスおよびスラグの有効利用によりITの推進に必要不可欠かつ国際的にニーズの高い(1)極超短パルスTi^<3+>ドープ波長可変ガラスファイバレーザ,(2)光通信用希土類イオンドープ光ファイバ増幅器,(3)室温永続的ホールバーニング(PHB)メモリデバイス用Sm^<2+>ドープ硫化物ガラス薄膜(4)超高速光スイッチングデバイス用金属銅微粒子分散ガラス薄膜の実装用デバイスの開発を目指している。
本年度は,ファイバ,薄膜作製プロセスについて検討を行った。光ファイバおよび薄膜を形成するためにはガラス融体の物性値が必要となる。そこで,申請の高温広粘度域融体物性評価システムによってリン酸塩系ガラスの融体物性測定を行った。これによりリン酸塩系ガラスのファイバ化・簿膜化に必要不可欠な融体物性を集積したことのみならず,これまで不足していたリン酸塩系ガラスの融体物性を実測することでリン酸塩系ガラス融体の物性と構造に関する知見を得た。さらに現在これらの研究成果に基づいてファイバおよび薄膜の製造プロセス確立の基礎設計を行なった。
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