| 研究課題/領域番号 |
14208060
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
原子力学
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
田川 精一 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (80011203)
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| 研究分担者 |
吉田 陽一 大阪大学, 産業科学研究所, 教授 (50210729)
古澤 孝弘 (古沢 孝弘) 大阪大学, 産業科学研究所, 助教授 (20251374)
関 修平 大阪大学, 産業科学研究所, 助教授 (30273709)
佐伯 昭紀 大阪大学, 産業科学研究所, 助手 (10362625)
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| 研究期間 (年度) |
2002 – 2004
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| 研究課題ステータス |
完了 (2004年度)
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| 配分額 *注記 |
47,840千円 (直接経費: 36,800千円、間接経費: 11,040千円)
2004年度: 9,360千円 (直接経費: 7,200千円、間接経費: 2,160千円)
2003年度: 17,940千円 (直接経費: 13,800千円、間接経費: 4,140千円)
2002年度: 20,540千円 (直接経費: 15,800千円、間接経費: 4,740千円)
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| キーワード | フェムト秒パルスラジオリシス / ナノ構造 / ナノテクノロジー / 空間分布 / 拡散方程式 / 反応機構 / 時間挙動 / レジスト / フェムト秒パルスジオリシス / モンテカルロシミュレーション |
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| 研究概要 |
ナノリソグラフィは将来のナノテク産業を支えるトップダウン型のナノテクノロジー技術の代表であるが、ナノ構造体の大量生産を実現するためには、解決されなければならない多くの課題が残されている。現在のリソグラフィはKrFエキシマレーザーのような光が露光源として用いられているが、ナノリソグラフィにおいては電子ビームのような量子ビームが露光源として期待されている。電子線やEUVと物質の相互作用は主にイオン化である。その際に放出せれる電子が熱化に至る飛跡は凝縮系では、平均1ナノメータから10数ナノメータに及ぶと報告されているが詳細は不明のままであった。ナノリソグラフィにおいてはイオン化において飛び出した電子と他の物質が様々な反応をすることにより、最終的な微細加工が行われることになるので、電子の分布はナノ加工の精度を決める大きな要因になる。特に、次世代放射線用微細加工材料として期待されている化学増幅型レジストでは、露光により生成する酸を利用してパターンの解像を行うが、酸の生成にはイオン化により生成した電子が密接に関係していることがわかっている。本研究では、フェムト秒レーザーとフェムト秒電子ビームの複合利用による超高速計測手法により、イオン化直後の電子ビーム誘起反応を計測し、イオン化で生成される電子の初期分布を明らかにし、その後に続くレジスト中でのナノ構造形成反応を解明することに成功した。
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