負の電子親和力表面の設計と電子放出過程の研究

• 研究課題/領域番号: 14350003
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 応用物性・結晶工学
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 斉木 幸一朗 東大, 教授 (70143394)
• 研究期間 (年度): 2002
• 研究課題ステータス: 完了 (2002年度)
• 配分額: 9,500千円 (直接経費: 9,500千円); 2002年度: 9,500千円 (直接経費: 9,500千円)