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極薄シリコン酸化膜スペーサを用いたナノギャップ構造トンネル分光デバイスの研究

研究課題

研究課題/領域番号 14350166
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関大阪大学

研究代表者

森田 瑞穂  大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (50157905)

研究分担者 有馬 健太  大阪大学, 大学院・工学研究科, 助手 (10324807)
研究期間 (年度) 2002 – 2005
研究課題ステータス 完了 (2005年度)
配分額 *注記
14,600千円 (直接経費: 14,600千円)
2005年度: 5,200千円 (直接経費: 5,200千円)
2004年度: 3,700千円 (直接経費: 3,700千円)
2003年度: 3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
2002年度: 2,700千円 (直接経費: 2,700千円)
キーワードナノギャップ / センシング / シリコン酸化膜 / シリコン / 超純水 / 静電容量 / コンダクタンス / 電子応答 / ナノギャップ構造 / トンネル分光 / 極薄シリコン酸化膜
研究概要

シリコン酸化膜をスペーサとして用いたシリコン/ナノギャップ/シリコン構造センシングデバイスを製作し、センシングデバイスのナノギャップに超純水を導入することにより、センシングデバイスの静電容量とコンダクタンスの変化を測定することにより超純水を検出できることを明らかにしている。さらに、ナノギャップに超純水を導入し、静電容量とコンダクタンス変化の周波数依存性を明らかにしている。ギャップ構造は、走査電子顕微鏡を用いてデバイス構造の断面を観察し、シリコン酸化膜をスペーサとしたナノギャップが形成されていることを確認している。ナノギャップへの超純水の浸入は、デバイス構造のフーリエ変換赤外吸収透過測定により確認している。ナノギャップ中を超純水が移動する様子は、デバイス構造の近赤外光透過の面分布測定によりリアルタイムで観測し、確認している。近赤外光透過測定では、シリコンが透明になるため、ギャップの配置、電極の配置が観察でき、所定のデバイス構造が製作されていることを確認している。また、ナノギャップ中に超純水が浸入していくためには、センシング表面が親水性であることが必要であることを確認している。さらに、ナノギャップに超純水を導入し、センシング面のシリコン酸化膜のセンシング感度への効果を明らかにし、感度が高いセンシングデバイス構造を明らかにしている。センシング原理として、水の状態の電子応答モデルを提案している。

報告書

(5件)
  • 2005 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2004 実績報告書
  • 2003 実績報告書
  • 2002 実績報告書
  • 研究成果

    (27件)

すべて 2005 2004 2003 その他

すべて 雑誌論文 (16件) 図書 (1件) 文献書誌 (10件)

  • [雑誌論文] Development of Nano-Gap Device for Biosensor2005

    • 著者名/発表者名
      Satoru Morita, Takaaki Hirokane, Tatsuya Takegawa, Shinichi Urabe, Kenta Arima, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2005 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 828-829

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2005 実績報告書 2005 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Reaction of Hydrogen-Terminated Si(100) Surfaces with Oxygen at Very Low Pressures during Heating2005

    • 著者名/発表者名
      Shinichi URABE, Kazuo NISHIMURA, Syuhei NISHIKAWA, Satoru MORITA, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44・11

      ページ: 8091-8095

    • NAID

      10016871640

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2005 実績報告書 2005 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Reaction of Hydrogen-Terminated Si(100) Surfaces with Oxygen at Very Low Pressures during Heating2005

    • 著者名/発表者名
      Shinichi URABE, Kazuo NISHIMURA, Syuhei NISHIKAWA, Satoru MORITA, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 44(11)

      ページ: 8091-8095

    • NAID

      10016871640

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2005 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Electrical Properties of SiC/p-Si(100) Structure2005

    • 著者名/発表者名
      Syuhei Nishikawa, Hideaki Hashimoto, Motonori Chikamoto, Minoru Aoki, Kenta Arima, Mizuho Morita
    • 雑誌名

      Program and Abstracts, Fourth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures

      ページ: 148-149

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Photodetector Characteristics of Metal-Oxide-Semiconductor Tunneling Structures with Transparent Conductive Tin Oxide Gate2005

    • 著者名/発表者名
      Motonori Chikamoto, Hideaki Hashimoto, Kosuke Horikoshi, Akihito Shinozaki, Satoru Morita, Kenta Arima, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2005 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 734-735

    • NAID

      10022543080

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] PHOTODETECTION CHARACTERISTICS OF SnO_2-ULTRATHIN SiO_2-Si STRUCTURES2005

    • 著者名/発表者名
      Motonori Chikamoto, Hideaki Hashimoto, Kosuke Horikoshi, Akihito Shinozaki, Satoru Morita, Kenta Arima, Junichi Uchikoshi, Mizuho Morita
    • 雑誌名

      The Physics and Chemistry of SiO_2 and the Si-SiO_2 Interface - 5, ECS Transactions, The Electrochemical Society 1・1

      ページ: 97-102

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] CHARACTERIZATIUN OF TUNNELING CURRENT THROUGH ULTRATHIN SILICON DIOXIDE FILMS BY DIFFERENT-METAL GATES MRTHOD2005

    • 著者名/発表者名
      Naoto Yoshii, Tatsuya Okazaki, Takaaki Hirokane, Shinichi Urabe, Kazuo Nishimura, Satoru Morita, Mizuho Morita
    • 雑誌名

      The Physics and Chemistry of SiO_2 and the Si-SiO_2 Interface - 5, ECS Transactions, The Electrochemical Society 1・1

      ページ: 277-282

    • 関連する報告書
      2005 実績報告書
  • [雑誌論文] Nano-Gap Device for Liquid Sensing2004

    • 著者名/発表者名
      Satoru MORITA, Tatsuya TAKEGAWA, Takaaki HIROKANE, Shinichi URABE, Kenta ARIMA, Junichi UCHIKOSHI, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 704-705

    • NAID

      10022539806

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2005 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Tunneling Current through Ultrathin Silicon Dioxide Films under Light Exposure2004

    • 著者名/発表者名
      Satoru MORITA, Akihito SHINOZAKI, Yuuki MORITA.Kazuo NISHIMURA, Tatsuya OKAZAKI, Shinichi URABE, Nizuho MORITA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 43・11B

      ページ: 7857-7860

    • NAID

      10014215132

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2005 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Reaction of Hydrogen-Desorbed Si(100) Surfaces with Water during Heating and Cooling2004

    • 著者名/発表者名
      Shinichi URABE, Kazuo NISHIMURA, Satoru MORITA, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 43・12

      ページ: 8242-8247

    • NAID

      10014216654

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2005 研究成果報告書概要 2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Tunneling Current through Ultrathin Silicon Dioxide Films under Light Exposure2004

    • 著者名/発表者名
      Satoru MORITA, Akihito SHINOZAKI, Yuuki MORITA, Kazuo NISHIMURA, Tatsuya OKAZAKI, Shinichi URABE, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 43(11B)

      ページ: 7857-7860

    • NAID

      10014215132

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2005 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Reaction of Hydrogen-Desorbed Si(100) Surfaces with Water during Heating and Cooling2004

    • 著者名/発表者名
      Shinichi URABE, Kazuo NISHIMURA, Satoru MORITA, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 43(12)

      ページ: 8242-8247

    • NAID

      10014216654

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2005 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Tunneling Current through Ultrathin Silicon Dioxide Films under Light Exposure2004

    • 著者名/発表者名
      Satoru MORITA, Akihito SHINOZAKI, Yuuki MORITA, Kazuo NISHIMURA, Tasuya OKAZAKI, Shinichi URABE, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of 2004 International Workshop on DIELECTRIC THIN FILMS FOR FUTURE ULSI DEVICES-SCIENCE AND TECHNOLOGY

      ページ: 77-78

    • NAID

      10014215132

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Nano-Gap Device for Liquid Sensing2004

    • 著者名/発表者名
      Satoru, MORITA, Tatsuya, TAKEGAWA, Takaaki HIROKANE, Shinichi URABE, Kenta ARIMA, Junichi UCHIKOSHI, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of the 2004 International Conference on Solid State Devices and Materials

      ページ: 704-705

    • NAID

      10022539806

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Tunneling Current through Ultrathin Silicon Dioxide Films under Light Exposure2004

    • 著者名/発表者名
      Satoru MORITA, Akihito SHINOZAKI, Yuuki MORITA, Kazuo NISHIMURA, Tatsuya OKAZAKI, Shinichi URABE, Mizuho MORITA
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics 43・11B

      ページ: 7857-7860

    • NAID

      10014215132

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] FTIR-ATR Evaluation of Organic Contaminant Cleaning Methods for SiO_2 Surfaces2003

    • 著者名/発表者名
      Akihito SHINOZAKI, Kenta ARIMA, Mizuho MORITA, Isao KOJIMA, Yasushi AZUMA
    • 雑誌名

      ANALYTICAL SCIENCES 19

      ページ: 1557-1559

    • NAID

      10012534238

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2005 研究成果報告書概要
  • [図書] 赤外線加熱工学ハンドブック 極薄シリコン酸化膜形成への応用2003

    • 著者名/発表者名
      森田瑞穂
    • 出版者
      アグネ技術センター
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2005 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Yasushi Azuma, Ruiqin Tan, Toshiyuki Fujimoto, Isao Kojima, Akihito Shinozaki, Mizuho Morita: "Uncertainties Caused by Surface Adsorbates in Estimates of the Thickness of SiO_2 Ultrathin Films"Characterization and Metrology for ULSI Technology : 2003 International Conference. 337-342 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Akihito SHINOZAKI, Kenta ARIMA, Mizuho MORITA, Isao KOJIMA, Yasushi AZUMA: "FTIR-ATR Evaluation of Organic Contaminant Cleaning Methods for SiO_2 Surfaces"ANALYTICAL SCIENCES. 19. 1557-1559 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Naoto Yoshii, Satoru Morita, Akihito Shinozaki, Minoru Aoki, Mizuho Morita: "Energy Barrier Heights of Ultra-thin Silicon Dioxide Films with Different Metal Gates"Extended Abstracts of International Workshop on Gate Insulator 2003. 96-97 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Naoto Yoshii, Satoru Morita, Akihito Shinozaki, Minoru Aoki, Mizuho Morita: "Determination of Energy Barrier Heights in MOS Diodes with Different Metal Gates"Extended Abstracts of the 9th Workshop on FORMATION CHARACTERIZATION AND RELIABILITY OF ULTRATHIN SILICON OXIDES. 313-316 (2004)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Akihito Shinozaki, Yuuki Morita, Satoru Morita, Mizuho Morita: "Oxide Thickness Dependence of Photo Currents of MOS Tunneling Diodes"Extended Abstracts of the 9th Workshop on FORMATION CHARACTERIZATION AND RELIABILITY OF ULTRATHIN SILICON OXIDES. 317-320 (2004)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] 森田瑞穂: "赤外線加熱工学ハンドブック 極薄シリコン酸化膜形成への応用"アグネ技術センター. 118-126 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Minoru Aoki, Naoto Yoshii, Kenta Arima, Mizuho Morita: "Electrical Properties of SiC Films Formed on Si by Thermal Chemical Vapour Deposition Using Monomethylsilane"ABSTRACTS, Fourth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces. P4-8-P4-8 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Naoto Yoshii, Satoru Morita, Akihito Shinozaki, Minoru Aoki, Mizuho Morita: "Determination of Energy Barrier Heights of Ultra-thin Silicon Dioxide Films Using Different Metal Gates"ABSTRACTS, Fourth International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces. LP3-5-LP3-5 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Akihito SHINOZAKI, Kenta ARIMA, Mizuho MORITA, Yasushi AZUMA, Isao KOJIMA: "The Influence of Organic Contamination on Ultrathin Silicon Dioxide Film Thickness Measured by Ellipsometry"Extended Abstracts of the 8th Workshop on FORMATION CHARACTERIZATION AND RELIABILITY OF ULTRATHIN SILICON OXIDES. 233-236 (2003)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] 森勇藏, 山内和人, 芳井熊安, 安武潔, 森田瑞穂, 片岡俊彦, 遠藤勝義, 青野正和, 桑原裕司, 広瀬喜久治, 後藤英和: "究極の物づくり-原子を操る-"大阪大学出版会. 87 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書

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公開日: 2002-04-01   更新日: 2016-04-21  

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