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絶縁膜上シリコン光モジュレータの研究

研究課題

研究課題/領域番号 14350189
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子デバイス・機器工学
研究機関広島大学

研究代表者

角南 英夫  広島大学, ナノデバイス・システム研究センター, 教授 (10311804)

研究分担者 横山 新  広島大学, ナノデバイス・システム研究センター, 教授 (80144880)
研究期間 (年度) 2002 – 2004
研究課題ステータス 完了 (2004年度)
配分額 *注記
14,500千円 (直接経費: 14,500千円)
2004年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
2003年度: 3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
2002年度: 9,300千円 (直接経費: 9,300千円)
キーワード光モジュレータ / SOI / 櫛形トランジスタ / 自由電子 / 赤外光吸収 / 光導波路 / 透明電極 / 赤外吸収 / 自由電子赤外光吸収
研究概要

本研究の目標たる光モジュレータは、シリコン中自由電子による赤外光の吸収を利用する新しい挑戦的な試みである。実現の要は、光と相互作用する自由電子の量をいかに確保するかというもので、このため櫛形MOSトランジスタによる光モジュレータの試作とその評価を行った。
最初の櫛形トランジスタによる光スイッチ実現の試みは、(1)入射した直径10μmの平行赤外光(波長,λ=1.55μm)は高さ1μm、長さ1mmの櫛形Siビーム中に留まらず、基板のSi中に抜ける、(2)櫛形Siの隙間に埋め込まれた不純物を10^<21>/cm^3程度含む多結晶Siが入射赤外光を強く吸収する、などの理由により光のスイッチ動作は確認できなかったが、(3)実効チャネル長2μm、高さ1μm、幅50nmのマルチSiビームMOSトランジスタが正常に動作し、同一平面面積のトランジスタの数倍以上の駆動電流が実現できた。ここに、新しいマルチチャネルMOSトランジスタ構造の提案ができた。
その後,上記(1)および(2)の課題の解決を意図したSOI (Silicon-On-Insulator)基板上Si光モジュレータを試作し評価した結果、(a)入射した波長1.55μmの赤外光は大部分透明なSi基板内を透過し,測定には有害な迷光となった。迷光強度はモジュレータ導波路を通過する赤外光の1000倍以上であることがわかった。このため,モジュレータ内を透過した光のゲート電圧による変化を確認できなかった。
この解決のため、Si基板に透過光を遮断する溝を形成し、波長1.55μmの赤外光を遮断するカーボンブラックを塗布した構造を試作し評価した結果、極めて有効な構造であることが確認できた。本研究期間内ではこの改良した構造での光モジュレータの試作はできなかったが、現在その試作・評価を継続している。

報告書

(4件)
  • 2004 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2003 実績報告書
  • 2002 実績報告書
  • 研究成果

    (28件)

すべて 2006 2005 2004 2003 その他

すべて 雑誌論文 (20件) 図書 (1件) 文献書誌 (7件)

  • [雑誌論文] High-aspect-ratio structure formation techniques for three-dimensional metal-oxide-semiconductor transistors2006

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami S.Matsumura, K.Yoshikawa, K.Okuyama
    • 雑誌名

      Microelectronic Engineering (in press)

    • NAID

      120000882661

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Fabrication of spin-coat optical waveguides for optically interconnected LSI and influence of fabrication process on lower layer MOS capacitors2006

    • 著者名/発表者名
      T.Tabei, K.Maeda, S.Yokoyama, H.Sunami
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys., April issue (in press)

    • NAID

      10022541844

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Application of Arsenic Plasma Doping in Three-Dimensional MOS Transistors and the Doping Profile Evaluation2005

    • 著者名/発表者名
      K.Kobayashi, T.Eto, K.Okuyama, K.Shibahara, H.Sunami
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.44

      ページ: 2273-2278

    • NAID

      10015703895

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Fabrication of spin-coat optical waveguides for optically interconnected LSI and influence of fabrication process on lower layer MOS capacitors2005

    • 著者名/発表者名
      T.Tabei, K.Maeda, S.Yokoyama, H.Sunami
    • 雑誌名

      Ext.Abs.of International Symp.on Solid State Devices and Materials

      ページ: 332-333

    • NAID

      10022541844

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] High-Aspect-Ratio Structure Formation Techniques for Three-Dimensional Metal-Oxide-Semiconductor Transistors2005

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami, K.Okuyama
    • 雑誌名

      Abs.of 31^<st> Internat.Conf.on Micro-Nano-Engineering No.11 B_03

    • NAID

      120000882661

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] A Three-Dimensional MOS Transistor Formation Technique with Crystallographic Orientation-Dependent TMAH Etchant2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami, T.Furukawa, T.Masuda
    • 雑誌名

      SENSORS and ACTUATORS A : PHYSICAL A111

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] A High-Aspect Ratio Silicon Gate Formation Technique for Beam-Channel MOS Transistor with Impurity-Enhanced Oxidation2004

    • 著者名/発表者名
      A.Katakami, K.Kobayashi, H.Sunami
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.43

      ページ: 2145-2150

    • NAID

      10012949618

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] An Impurity-Enhanced Oxidation Assisted Doping Profile Evaluation for Three-Dimensional and Vertical-Channel Transistors Extended2004

    • 著者名/発表者名
      K.Kobayashi, T.Eto, K.Okuyama, K.Shibahara, H.Sunami
    • 雑誌名

      Ext.Abs.of International Symp.on Solid State Devices and Materials

      ページ: 208-209

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] An Experimental Analysis of 1.55-mm Infrared Light Propagation in Integrated SOI Structure2004

    • 著者名/発表者名
      M.Kawai, K.Endo, T.Tabei, H.Sunami
    • 雑誌名

      Ext.Abs.of International Symp.on Solid State Devices and Materials

      ページ: 556-557

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Integrated Power Transistor Application of Three-Dimensional Sidewall-Channel MOS Transistor2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami, K.Kobayashi, S.Matsumura
    • 雑誌名

      Proc.the 7th Internat.Conf.on Solid-State and Integrated-Circuit Technology (ICSICT) (invited)

      ページ: 336-339

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] A Three-Dimensional MOS Transistor Formation Technique with Crystallographic Orientation-Dependent TMAH Etchant2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami
    • 雑誌名

      SENSORS and ACTUATORS A : PHYSICAL A111

      ページ: 310-316

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] A High-Aspect Ratio Silicon Gate Formation Technique for Beam-Channel MOS Transistor with Impurity-Enhanced Oxidation2004

    • 著者名/発表者名
      A.Katakami
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. 43-4B

      ページ: 2145-2150

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] An Experimental Analysis of 1.55-μm Infrared Light Propagation in Integrated SOI Structure2004

    • 著者名/発表者名
      M.Kawai
    • 雑誌名

      Extended Abstracts of International Symp.on Solid State Devices and Materials No.P7-1

      ページ: 556-557

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] Integrated Power Transistor Application of Three-Dimensional Sidewall-Channel MOS Transistor (invited)2004

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami
    • 雑誌名

      Proc.the 7th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology A7.3

      ページ: 336-339

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] A High-Aspect Ratio Silicon Gate Formation Technique for Beam-Channel MOS Transistor with Impurity-Enhanced Oxidation2003

    • 著者名/発表者名
      A.Katakami, K.Kobayashi, H.Sunami
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 43

    • NAID

      10012949618

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] A Proposal of Corrugated-Channel Transistor (CCT) with Vertically-Formed Channels for Area-Conscious Applications2003

    • 著者名/発表者名
      T.Furukawa, H.Yamashita, H.Sunami
    • 雑誌名

      Jpn.J.Appl.Phys. Vol.42, Part 1

      ページ: 2067-2072

    • NAID

      80015977605

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] A Proposal of Corrugated-Channel Transistor (CCT) with Vertically-Formed Channels for Area-Conscious Applications

    • 著者名/発表者名
      T.Furukawa, H.Yamashita, H.Sunami
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 42

      ページ: 2067-2072

    • NAID

      80015977605

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Application of Arsenic Plasma Doping in Three-Dimensional MOS Transistors and the Doping Profile Evaluation

    • 著者名/発表者名
      K.Kobayashi, T.Eto, K.Okuyama, K.Shibahara, H.Sunami
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 44

      ページ: 2273-2278

    • NAID

      10015703895

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] High-aspect-ratio structure formation techniques for three-dimensional metal-oxide-semiconductor transistors

    • 著者名/発表者名
      H.Sunami, S.Matsumura, K.Yoshikawa, K.Okuyama
    • 雑誌名

      Microelectronic Engineering 2006 issue(in press)

    • NAID

      120000882661

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Fabrication of spin-coat optical waveguides for optically interconnected LSI and influence of fabrication process on lower layer MOS capacitors

    • 著者名/発表者名
      T.Tabei, K.Maeda, S.Yokoyama, H.Sunami
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys. 45(in press)

    • NAID

      10022541844

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [図書] VLSI工学 : 製造プロセス編2006

    • 著者名/発表者名
      角南英夫
    • 総ページ数
      210
    • 出版者
      電子情報通信学会
    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2004 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T Furukawa: "A Proposal of Corrugated-Channel Transistor (CCT) with Vertically-Formed Channels for Area-Conscious Applications"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. 2067-2072 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] H Sunami: "A three-dimensional MOS transistor formation technique with crystal-lographyc orientation-dependent TMAH etchant"Sensors and Actuators. A111. 310-316 (2004)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] 田部井哲夫: "SOIウェハに適した導波路構造の解析"第64回応用物理学会学術講演会講演予稿集. 30p-ZE-16. 1299-1299 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] H.Sunami: "Orientation-Dependent Anisotropic TMAH Etchant Applied to 3-D Silicon Nanostructure Formation"Proc. Pacific Rim Workshop on Transducers and Micro/nano Technologies. 367-372 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] T.Furukawa: "Corrugated-Channel Transistor(CCT) for Area-Conscious Applications"Ext. Abs. of the Int. Conf. on Solid State Devices and Materials. 138-139 (2002)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] H.Sunami: "Fundamental Characteristics of Crystallographic Orientation-Dependent TMAH Etching and Its Application To Three-Dimensional Silicon"Sensors and Actuators A : Physical. (印刷中). (2003)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書
  • [文献書誌] T.Furukawa: "A Corrugated-Channel Transistor(CCT) with Vertically-Formed Channels for Area-Conscious Applications"Jap. J. Appl. Physics. 42,4-B. 1-6 (2003)

    • 関連する報告書
      2002 実績報告書

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公開日: 2002-04-01   更新日: 2016-04-21  

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