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低誘電率・低誘電正接を有する次世代感光性有機層間絶縁膜の開発

研究課題

研究課題/領域番号 14350484
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 高分子合成
研究機関東京工業大学

研究代表者

上田 充  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (20007199)

研究分担者 芝崎 祐二  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助手 (90323790)
研究期間 (年度) 2002 – 2003
研究課題ステータス 完了 (2003年度)
配分額 *注記
14,500千円 (直接経費: 14,500千円)
2003年度: 5,200千円 (直接経費: 5,200千円)
2002年度: 9,300千円 (直接経費: 9,300千円)
キーワード感光性ポリマー / 耐熱性 / 低誘電性 / 低誘電損失 / ポリ(ビナフチルエーテル) / 感光性ポリ(ナフタレン) / アルカリ現像 / 酸発生剤 / 感光性ポリ(フェニレンエーテル) / 感光性ポリベンズオキサゾール / アルカリ現象 / 全脂環式感光性ポリイミド
研究概要

1)感光性ポリ(ナフタレン)の開発では,Cu/アミン触媒を用いた2,6-ジヒドロキシナフタレンの酸化カップリング重合により、高分子量のポリ(2,6-ジヒドロキシナフタレン)(PHN)の合成に成功した。次にPHNと感光性溶解抑制剤ジアゾナフトキノン(DNQ)からポジ型感光性ポリマーを,架橋剤,光酸発生剤との組み合わせによるアルカリ現像可能なネガ型低誘電性,耐熱感光性ポリマー(誘電率,2.8,感度(D_<0.5>)=8.3mJ/cm_2およびコントラスト(γ_<0.5>)=11)を開発した。さらに,PHNの吸湿率(5%)を改善するために30%部分保護PHNを合成し,新規な架橋剤,光酸発生剤との組み合わせによるアルカリ現像可能なポジ型低誘電性,耐熱感光性ポリマー(誘電率2.9,吸湿率1.6%,感度=19.4mJ/cm_2およびコントラスト=7.5)を開発した。
2)感光性ポリ(フェニレンエーテル)の開発では,酸化カップリング重合によりポリ[2,6-ジ-(3-メチル-2-ブテニルフェノール)]/(2,6-ジメチルフェノール)の共重合体を合成し,酸発生剤との組み合わせによる有機溶媒現像,ネガ型低誘電性,耐熱感光性ポリマーの検討を行い,誘電率2.6,誘電損失0.003-0.004(10GHz),感度およびコントラストはそれぞれ35mJ/cm_2および1.6の高感度で低誘電の感光性ポリマーを開発した。さらに,得られた共重合体のガラス転移温度(Tg)は260℃で,ポリ(2,6-ジメチルフェノール)のTg 210℃から大幅な改善がなされた。さらに,架橋構造を導入したのでTg以上でも機械的強度を保ち,高温での使用も可能であった。
3)2,2'-ビス(1-ナフチルオキシ)-1,1'-ビナフチルの酸化カップリング重合により高分子量のポリ(ビナフチルエーテル)(PBE)を合成した。PBEは非常に高い熱安定性>500℃,低誘電性2.5,高ヤング率9.8Gpa,高硬度0.42Gpaを示し,次世代絶縁相間膜として有望である。

報告書

(3件)
  • 2003 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 2002 実績報告書
  • 研究成果

    (50件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (50件)

  • [文献書誌] T.Fukuhara, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of Thermosetting Poly(phenylene ether) containing Allyl Groups"Polymer. 45. 843-847 (2004)

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  • [文献書誌] Y.Watanabe, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of Semiaromatic Polyimides from Aromatic Diamines Containing Adamantyl Units and Alicyclic Dianhydrides"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 41. 144-150 (2004)

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  • [文献書誌] K.Matsumoto, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of photosensitive and Thermosetting Poly(phenylene ether) Containing Allyl Groups"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.,. (Submitted).

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  • [文献書誌] K.Tsuchiya, Y Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthalene), a Cross-Linker, and a Photoacid Generator"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.,. 42. 2235-2240 (2004)

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  • [文献書誌] K.Fukukawa, Y Shibasaki, M.Ueda: "Photosensitive Poly(benzoxazole) via Poly(o-hydroxy azomethine) II : Environmentally Benign Process in Ethyl Lactate"Polym.J.. (In press). (2004)

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  • [文献書誌] K.Tsuchiya, Y Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "A Positive Type Alkaline Developable Thermally stable and Photosensitive Polymer Based on Partially O-Methylated Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthylene), an acidolytic de-cross-linker, and a Photoacid Generator Submitted for publication in Polymer"Polymer. (submitted).

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  • [文献書誌] K.Tsuchiya, H.Ishii, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of a Novel Poly(Biaphthalene ether)r with a Low Dielectric Constant."Macromolecules. (In press). (2004)

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  • [文献書誌] K.Tuchiya, Y Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "A New Negative-Type Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydro-1,5-naphthylene), a Cross-Linker, and a Photoacid Generato"J.Photopolym.Sci & Technol.. 16. 285-286 (2003)

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  • [文献書誌] M.Ueda, K.Ebara, Y.Shibasaki: "New Convenient Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Photopolym.Sci & Technol. 16. 237-242 (2003)

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  • [文献書誌] K.Ebara, Y Shibasaki, M.Ueda: "Chemically Amplified Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Photopolym.Sci & Technol. 16. 287-292 (2003)

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  • [文献書誌] K.Morita, K.Ebara, Y.Shibasaki, K.Goto, S.Tami, M.Ueda: "New Positive-type Photosensitive Polyimide Having Sulfo Groups"Polymer. 44. 6235-6239 (2003)

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  • [文献書誌] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Photosensitive poly(benzoxazole) based on Precursor from Diphenyl Isophthalate and Bis(o-aminophenol)"Polymer. 44. 333-339 (2003)

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  • [文献書誌] Y.Sasada, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "Convenient Synthesis of Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthylene) by Cu(II)-amin Catalyzed Oxidative Coupling Polymerization"Polymer. 44. 355-360 (2003)

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  • [文献書誌] Y.Sasada, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "New Positive-Type Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthylene) and Diazonaphtoquinone"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 40. 393-398 (2002)

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  • [文献書誌] Y.Watanabe, Y.Sakai, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda, Y.Oishi, K.Mori: "Synthesis of Wholly Alicyclic Polyimides from N-Silylated Alicyclic Diamines and Alicyclic Dianhydrides"Macromolecules. 35. 2277-2281 (2002)

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  • [文献書誌] Y.Watanabe, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "New Positive-Type Photosensitive Alkaline-Developable Alicyclic Polyimide Based on Poly(amic acid silylester) as a Polyimide Precursor and Diazonaphthoquinone as a Photosensitive Compound"Chem.Mater.. 14. 1762-1766 (2002)

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  • [文献書誌] K.Ebara, Y Shibasaki, M.Ueda: "New Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem. 40. 3379-3405 (2002)

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  • [文献書誌] T.Fukuhara, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of Thermosetting Poly(phenylene ether) containing Allyl Groups"Polymer. 45. 843-847 (2004)

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  • [文献書誌] Y.Watanabe, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of Semiaromatic Polyimides from Aromatic Diamines Containing Adamantyl Units and Alicyclic Dianhydrides"J.Polym.Sci.Part-A, Polym.Chem.. 41. 144-150 (2004)

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  • [文献書誌] K.Matsumoto, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthalene), a Cross-Linker, and a Photoacid Generator"J.Polym.Sci.Part-A, Polym.Chem.. (submitted for publication).

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  • [文献書誌] K.Tsuchiya, Y.Shibasaki, M.Suzuki, Mitsuru Ueda: "Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthalene), a Cross-Linker, and a Photoacid Generator"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 42. 2235-2240 (2004)

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  • [文献書誌] K.Fukukawa, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Photosensitive Poly(benzoxazole) via Poly(ο-hydroxy azomethine) II : Environmentally Benign Process in Ethyl Lactate"Polym.J.. (in press).

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  • [文献書誌] K.Tsuchiya, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "A Positive Type Alkaline Developable Thermally stable and Photosensitive Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthylene), an acidolytic de-cross-linker, and a Photoacid Generator"Polymer. (submitted for publication).

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  • [文献書誌] K.Tsuchiya, H.Ishii, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of a Novel Poly(Biaphthalene ether)r with a Low Dielectric Constant"Macromolecules. (in press).

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      2003 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tuchiya, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "A New Negative-Type Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydro-1,5-naphthylene), a Cross-Linker, and a Photoacid Generator"J.Photopolym.Sci & Technol.. 16. 285-286 (2003)

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      2003 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] M.Ueda, K.Ebara, Y.Shibasaki: "New Convenient Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Photopolym.Sci & Technol.. 16. 237-242 (2003)

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      2003 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Chemically Amplified Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Photopolym. Sci & Technol.. 16. 287-292 (2003)

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      2003 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Morita, K.Ebara, Y.Shibasaki, K.Goto, S.Tami, M.Ueda: "New Positive-type Photosensitive Polyimide Having Sulfo Groups"Polymer. 44. 6235-6239 (2003)

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  • [文献書誌] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Photosensitive poly(benzoxazole) based on Precursor from Diphenyl Isophthalate and Bis(o-aminophenol)"Polymer. 44. 333-339 (2003)

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  • [文献書誌] Y.Sasada, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "Convenient Synthesis of Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthylene) by Cu(II)-amin Catalyzed Oxidative Coupling Polymerization"Polymer. 44. 355-360 (2003)

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  • [文献書誌] Y.Sasada, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "New Positive-Type Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthylene) and Diazonaphtoquinoe"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 40. 393-398 (2002)

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      2003 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.Watanabe, Y.Sakai, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda, Y.Oishi, K.Mori: "Synthesis of Wholly Alicyclic Polyimides from N-Silylated Alicyclic Diamines and Alicyclic Dianhydrides"Macromolecules. 35. 2277-2281 (2002)

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  • [文献書誌] Y.Watanabe, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda.: "A New Positive-Type Photosensitive Alkaline-Developable Alicyclic Polyimide Based on Poly(amic acid silylester) as a Polyimide Precursor and Diazonaphthoquinone as a Photosensitive Compound"Chem.Mater.. 14. 1762-1766 (2002)

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      2003 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "New Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 40. 3379-3405 (2002)

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      2003 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Tuchiya, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "A New Negative-Type Photosensitive Polymer Based on Poly (2,6-dihydro-1,5-naphthalene), a Cross-Linker, and a Photoacid Generator"J.Photopolym.Sci.& Technol.. 16. 285-286 (2003)

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] T.Fukuhara, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of Thermosetting Poly(phenylene ether) containing Allyl Groups"Polymer. 45. 843-847 (2004)

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "New Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 40. 3379-3405 (2002)

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] K.Tsuchiya, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "Photosensitive Polymer Based on Poly(2,6-dihydroxy-1,5-naphthalene), A Cross-Linker, and a Photoacid Generator"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. (in press).

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Watanabe, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of Semiaromatic Polyimides from Aromatic Diamines Containing Adamantyl Units and Alicyclic Dianhydrides"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem.. 41. 144-150 (2004)

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] K.Fukukawa, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Photosensitive Poly(benzoxazole) via Poly(o-hydroxy azomethine) II : Environmentally Benign Process in Ethyl Lactate"Polym.J.. (in press).

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] M.Ueda, K.Ebara, Y.Shibasaki: "New Convenient Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Photopolym.Sci.& Technol.. 16. 237-242 (2003)

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Chemically Amplified Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Photopolym.Sci.& Technol.. 16. 287-292 (2003)

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] K.Morita, K.Ebara, Y.Shibasaki, K.Goto, S.Tami, M.Ueda: "New Positive-type Photosensitive Polyimide Having Sulfo Groups"Polymer. 44. 6235-6239 (2003)

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] K.Matsumoto, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "Synthesis of photosensitive and Thermosetting Poly(phenylene ether) Containing Allyl Groups"J.Photopolym.Sci.& Technol.. (in press).

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      2003 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Sasada, Y.Shibasaki, M.Suzuki, M.Ueda: "New Positive-Type Photosensitive Polymer Based on Poly (2,6-dihydroxy -1,5-naphthylene) and Diazonaphtoquinone"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem. 40. 393-398 (2002)

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      2002 実績報告書
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      2002 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Watanabe, Y.Shibasaki, S.Ando, M.Ueda: "A New Positive-Type Photosensitive AlkalineDevelopable Alicyclic Polyimide Based on Poly(amic acid silylester) a Polyimide Precursor and Diaonaphthoquinone a sa Photosensitive Compound"Chem.Mater. 14. 1762-1766 (2002)

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  • [文献書誌] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "New Synthetic Route for Photosensitive Poly(benzoxazole)"J.Polym.Sci.Part-A Polym.Chem. 40. 3379-3405 (2002)

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  • [文献書誌] K.Ebara, Y.Shibasaki, M.Ueda: "Photosensitive poly(benzoxazole) based on Precursor from Diphenyl Isophthalate and Bis (aminophenol)"Polymer. 44. 333-339 (2003)

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公開日: 2002-04-01   更新日: 2016-04-21  

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