| 研究課題/領域番号 |
14380390
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
医用生体工学・生体材料学
|
|---|
| 研究機関 | 東京大学 |
|---|
研究代表者 |
鎮西 恒雄 東京大学, 先端科学技術研究センター, 助教授 (20197643)
|
|---|
| 研究分担者 |
阿部 裕輔 東京大学, 大学院・医学系研究科, 助教授 (90193010)
磯山 隆 東京大学, 大学院・医学系研究科, 講師 (20302789)
遠山 貴博 アイシン・コスモス研究所, 研究員
斎藤 逸郎 東京大学, 先端科学技術研究センター, 助手 (80334225)
望月 修一 東京大学, 大学院・医学系研究科, 助手 (00345042)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2002 – 2004
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2004年度)
|
| 配分額 *注記 |
7,400千円 (直接経費: 7,400千円)
2004年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
2003年度: 2,900千円 (直接経費: 2,900千円)
2002年度: 3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
|
|---|
| キーワード | 組織工学 / 再生医療 / 細胞操作 / 共培養 / マイクロマシン / MEMS / 心筋培養 |
|---|
| 研究概要 |
シリコン基板を用いてフォトリソグラフィーの手法によりシリコン細胞培養チップを作成した。具体的にはシリコン基板上に絶縁層として酸化膜を用い、電極として金蒸着膜を形成した。ICP-RIEを用いて潅流用の穴あけ及び外形切り出しを行い、シリコン及び金蒸着膜に配線を行った後、パリレンでコーティングすることで全体の絶縁を行った。
潅流培養を実現するために、培養槽、細胞培養チップ、チップマウント、チューブ、ローラーポンプ、リザーバーからなる培養装置を作成した。このシステム全体をCO_2インキュベーター中に設置し培養を行った。はじめにB16-BL6メラノーマ由来細胞を用いて培養を行った。パリレンコーティングを行ったシリコン細胞培養チップ上に濃度1x10^4cells/mlのB16-BL6 cellsを1.5ml播種し3日間静置培養を行った。B16-BL6メラノーマ由来細胞はシリコン細胞培養チップに生着した。これよりシリコン細胞培養チップが細胞親和性を持つことが分かった。次にヒト由来臍帯静脈内皮細胞を用いて正常細胞での培養を行った。シリコン細胞培養チップはパリレンコーティングとI型コラーゲンコーティングを行った。濃度1x10^5cells/mlのヒト由来臍帯静脈内皮細胞3mlをシリコン細胞培養チップ上に播種し培養した。培養はインキュベーター中で37℃、CO_2濃度5%で行った。またシリコン基板に電位を加えて細胞を培養した。金薄膜面を0Vとし、シリコン部分に1V、5V、10Vをそれぞれ加え、ヒト由来臍帯静脈内皮細胞の培養を行った。電位を加えていない培養系では細胞がシリコン細胞培養チップの微細孔周囲に付着し生着していることが確認できた。電位を加えた実験ではヒト由来臍帯静脈内皮細胞の生着が確認できなかった。MEMSの手法を用いて新しいマイクロ細胞培養システムを開発することが出来た。
|
