| 研究課題/領域番号 |
14550648
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
金属物性
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| 研究機関 | 室蘭工業大学 |
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研究代表者 |
上田 勇治 室蘭工業大学, 工学部, 教授 (70001279)
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| 研究分担者 |
山田 昭弥 苫小牧工業高等専門学校, 助手 (40249719)
松田 瑞史 室蘭工業大学, 工学部, 助教授 (20261381)
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| 研究期間 (年度) |
2002 – 2003
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| 研究課題ステータス |
完了 (2003年度)
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| 配分額 *注記 |
2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
2003年度: 600千円 (直接経費: 600千円)
2002年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
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| キーワード | パルス電析法 / 強磁性金属 / 非磁性金属 / 多層構造薄膜 / 合金膜 / 磁性 / コンピュータ制御 / 電気抵抗 / パルス電析性 |
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| 研究概要 |
最近の高真空技術の進歩に伴って、物質の微細組織を原子レベルで制御可能となり、ナノオーダ物質として新材料開発への期待から注目されている。強磁性・非磁性原子からなる多層膜や微粒子析出型合金もその一例であり、強磁性内部のスピン配列を制御し、磁気的、電気的特性の向上が求められている。これは、主として気相法によるものであるが、我々は液相からの電気化学的手法である電析法によっている。
電析法は現在広く行われている気相薄膜成長法より幾つかの点で優れた利点を有する。例えば、電析条件さえ適当であれば、電位・電析時間を人為的に調節することにより人工的に制御された物質を作製できる。そこで、我々はコンピュータを用い、電極電位の波形,通過時間を精密に制御し、以下のような実験結果を得た。
1)強磁性・非磁性多層膜の作製
Co, AuやAgの金属イオンを含む溶液から周期的パルス電位を調節することにより、原子単位(ナノオーダー)で制御された強磁性Coと非磁性Au及びAgとの組み合わせの多層構造薄膜を作製可能とした。次にこれらの磁住及び電気的性質を詳細に調べた。
2)非平衡Co-Au, Ag強磁性合金膜の作製
パルス時間間隔をコンピュータにより極限的に短くすることにより、平均膜厚を1原子層以下に制御した非平衡Co-Au, Ag強磁性合金膜を作製した。次にこれらの磁性及び電気的性質を調べた。
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