| 研究課題/領域番号 |
14550706
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 姫路工業大学 |
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研究代表者 |
八重 真治 姫路工業大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (00239716)
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| 研究分担者 |
福室 直樹 姫路工業大学, 助手 (10347528)
松田 均 姫路工業大学, 教授 (60118015)
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| 研究期間 (年度) |
2002 – 2003
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| 研究課題ステータス |
完了 (2003年度)
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| 配分額 *注記 |
2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
2003年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
2002年度: 1,600千円 (直接経費: 1,600千円)
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| キーワード | マグネシウム合金 / 光パターニング / 光触媒 / 耐食性 / 二酸化チタン / 活性化前処理 / 無電解めっき / ニッケル / 半導体超微粒子 / 光電気化学 |
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| 研究概要 |
本研究では、マグネシウム上に緻密な金属薄膜を密着性よくパターニングして作製する新しい方法を開発し、マグネシウムの最大の欠点である耐食性を飛躍的に向上させるとともに導電性接点などの作製を容易にし、その実用材料としての機能性の向上と利用範囲の拡大を図ることを最終的な目的とした。
二酸化チタン超微粒子薄膜をつけたマグネシウム合金を無電解ニッケルめっき浴に浸して、紫外光照射による光電気化学的金属析出核形成と自己触媒金属膜成長によるニッケル薄膜作製とその光パターニングについて検討した。さらに、本法に適する強アルカリ性めっき浴の開発や従来法である二液法触媒活性化前処理について検討した。一般に用いられている酸性から中性の無電解ニッケルめっき浴では、比較的耐食性の高い陽極酸化膜被覆AZ31マグネシウム合金ですら激しく腐食する。そこで、従来用いられてきたホスフィン酸を還元剤とする無電解ニッケル-リンめっき浴の高pH化と、ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっき浴の開発を行い、良好な光パターニングを行うことに成功した。特に、ヒドラジンを還元剤とするめっき浴は、純粋なニッケル膜が得られることから、従来の合金膜にはない高い導電性やはんだ接合性が期待できる。このめっき浴の単純化を行い、EDTA等の環境負荷の高い錯化剤を必要としないめっき浴を開発した。酸化物などの非導電性基板上への無電解めっきの始動に用いられる二液法活性化前処理は、酸性溶液を使用するため、マグネシウム合金には不適当と考えられていたが、陽極酸化処理を施すことで適用可能となることを明らかにした。これに関連して、この前処理によって形成される触媒活性種について詳しく検討した。
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