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窒化物半導体による紫外光(UV)レーザへの発展

研究課題

研究課題/領域番号 14655008
研究種目

萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 応用物性・結晶工学
研究機関大阪大学

研究代表者

芳井 熊安  大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (30029152)

研究分担者 安武 潔  大阪大学, 大学院・工学研究科, 教授 (80166503)
垣内 弘章  大阪大学, 大学院・工学研究科, 助教授 (10233660)
大参 宏昌  大阪大学, 大学院・工学研究科, 助手 (00335382)
研究期間 (年度) 2002 – 2004
研究課題ステータス 完了 (2004年度)
配分額 *注記
3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
2004年度: 200千円 (直接経費: 200千円)
2003年度: 1,300千円 (直接経費: 1,300千円)
2002年度: 1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
キーワード窒化物半導体 / AlN / レーザ / 紫外光 / PA-MBE / エピタキシャル成長 / Al_xGa_<1-x>N
研究概要

本研究はラジカルソースMBE(Molecular Beam Epitaxy)装置を用い、III-V族窒化物半導体であるAlN単結晶薄膜をSi(111)基板上にエピタキシャル成長させ、紫外光半導体レーザをはじめ、紫外光発光・受光素子、への発展を目指す。
●AlN薄膜の成長条件の最適化により、Si(111)基板上へのエピタキシャル成長を実現し、CL(Cathdoluminescence)測定による光学特性では、結晶欠陥に起因する380nm付近の発光(Violet band)も示すが、室温にてAlNのバンド端からの発光214nm発光を確認した。
●発光素子として必要な活性層としてAl_xGa_<1-x>Nを作成し、Ga含有率の比率に対応した発光が得られ、特にAlが約90%・Gaが約10%と高濃度Al時に233nmのバンド端発光が得られた。Ga混合比を増すと380nm付近の発光(Violet band)が弱まりバンド端発光が優先的し高輝度発光することが確認され、250nm〜300nmまでの任意の波長の発光が実現できた。
●デバイス化に必要なAlN層のPN制御の試み、N型P型とも現在GaNに用いられているSiおよびMgを用い、ともにその効果は認められた。

報告書

(3件)
  • 2004 実績報告書
  • 2003 実績報告書
  • 2002 実績報告書

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公開日: 2002-04-01   更新日: 2016-04-21  

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