• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

次世代電荷デバイス用ニオブ粉末の新しい製造プロセス

研究課題

研究課題/領域番号 14655280
研究種目

萌芽研究

配分区分補助金
研究分野 金属生産工学
研究機関東京大学

研究代表者

前田 正史  東京大学, 生産技術研究所, 教授 (70143386)

研究分担者 岡部 徹  東京大学, 生産技術研究所, 助教授 (00280884)
今葷倍 正名  CBMMアジア(株), 技術開発部, (研究職)技術開発部長
研究期間 (年度) 2002 – 2003
研究課題ステータス 完了 (2003年度)
配分額 *注記
3,200千円 (直接経費: 3,200千円)
2003年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
2002年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
キーワード高性能電荷デバイス / ニオブ粉末 / ニオブコンデンサ / 金属粉末製造プロセス / プリフォーム還元法 / 金属熱還元法 / 原料成形体 / ニオブ / 還元プロセス / 金属熱還元 / 金属粉末 / レアメタル / 溶融塩 / コンデンサ / 電子材料
研究概要

本研究は次世代の高性能電荷デバイス(コンデンサ)の基幹素材となりうる高純度ニオブ粉末を製造する新しい製造プロセスの開発を目指したものである。研究対象となるニオブは、その全量がバルク素材として利用されてきたため、これまで粉末としての用途がなかった。このため、ニオブ粉末の製造プロセスを対象とした既存の研究開発はほとんどない。ニオブコンデンサの実用化研究が進む中で、高純度で微細なニオブ粉末は不可欠な素材となりつつあるため、効率良く低いコストでニオブ粉末を製造する技術が必要である。
本研究では、均一な金属粉末を効率よく製造するプロセスとして、原料(ニオブ酸化物)を含む成形体(プリフォーム)をあらかじめ作製し、これを還元剤の蒸気で還元するプリフォーム還元法を開発した。このプロセスは原料成形体と反応容器との接触部位を限定し、還元剤の蒸気を用いる還元手法であるため、反応容器や還元剤からの汚染を効果的に防止できる。また、還元プロセスの(半)連続化・大型化が容易に達成できる。
プリフォーム還元法によりニオブ酸化物を還元したところ、微細で均一なニオブ粉末を製造できることがわかった。また、還元時間、還元温度やプリフォームに加える還元助剤(フラックス)などの条件を変えて実験を行った結果、各種実験条件を適切に制御することによって、得られる金属粉末の粒径の制御が可能であることもわかった。このプロセスはニオブ粉末だけでなく、チタン・タンタルなどの金属粉末製造プロセスとして発展する可能性がある。

報告書

(2件)
  • 2003 実績報告書
  • 2002 実績報告書
  • 研究成果

    (3件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (3件)

  • [文献書誌] T.H.Okabe: "Production of Niobium Powder by Metallothermic Reduction of Feed Preform"ISIJ International. vol.43,no.12. 1882-1889 (2003)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] T.H.Okabe: "Production of Niobium Powder by Preform Reduction Process Using Various Fluxes and Alloy Reductant"ISIJ International. vol.44,no.2. 285-293 (2004)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書
  • [文献書誌] 岡部 徹: "電子材料用のタンタルおよびニオブ粉末の製造技術"まてりあ(日本金属学会会報). vol.43,no.1. 34-42 (2004)

    • 関連する報告書
      2003 実績報告書

URL: 

公開日: 2002-04-01   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi