研究課題
若手研究(A)
強誘電体の微細構造形成手法として、ゾルゲル法による薄膜形成を採用し、その形成条件を構造解析を行った。また、横方向のナノサイズ化を目的として、リソグラフィによる熱処理前・後の加工について検討を行った。さらに成膜・加工によって形成した強誘電体微細構造に対して種々の評価を行った。1.STO基板上および石英基板上にに室温アモルファス製膜、空気中アニールによりきわめて結晶性の良好なPZTおよびPLZT薄膜を得ることに成功した特にSTO基板上においては、X線回折測定において(001)方向にきわめて強く配向したエピタキシャル構造を得ることができた。2.厚さ100nm以下の極薄PLZT膜において、圧電応答顕微鏡観察により、ヒステリシスを確認した。このヒステリシス特性は電解による強誘電-リラクサ相転移によるものと考察された。
すべて 2005
すべて 雑誌論文 (1件)
Materials Letters Vol 59, Issue 10
ページ: 1234-1238