| 配分額 *注記 |
39,200千円 (直接経費: 39,200千円)
2007年度: 4,600千円 (直接経費: 4,600千円)
2006年度: 13,000千円 (直接経費: 13,000千円)
2005年度: 4,500千円 (直接経費: 4,500千円)
2004年度: 8,900千円 (直接経費: 8,900千円)
2003年度: 8,200千円 (直接経費: 8,200千円)
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| 研究概要 |
本研究目的は,これまでのプラズマ科学で取り扱われてきたパラメータ領域とは異なり,ミクロな空間で,高密度and/or高温のプラズマをパルスパワー技術を用いて生成する技術開発である.微小空間への電気エネルギーの高効率伝送及び高効率注入のためのパルスパワー技術開発,及びパルスパワー発生装置の超短パルス化を進め,高気圧気体や液体等高密度媒質中でのマイクロプラズマ生成を行う.パルスパワー発生装置として,パルス幅が6ナノ秒であるブルームライン線路方式パルスパワー発生装置,Bipolar Junction Transistors (BJT)を用いたミニチュアマルクス発生装置,及び磁気スイッチを用いたMagnetic Pulse Compression (MPC)方式の高繰り返しパルスパワー発生装置を開発した.これらのパルスパワー発生装置を用いて、高気圧気体中、水中、及び超臨界二酸化炭素中において、マイクロプラズマを生成した.各媒体中における、放電プラズマの進展状況の観測、及び高エネルギー密度現象である衝撃波や高電界、ラディカル、紫外光を観測した.これらの応用として、ダムにおけるアオコ処理や化学化合物の分解などにも適用した.さらに、大気圧空気流を用いることによるマイクロプラズマジェットをつくり、その進展過程を明らかにした.次世代リングラフィー光源として、パルスパワー電源を用いたEUV光源を開発し,高密度高温プラズマの制御を外部磁場により行うとともに,レーザーアシスト方式放電プラズマからのEUV光放射に関する物理を明らかにした.
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