| 配分額 *注記 |
42,600千円 (直接経費: 42,600千円)
2007年度: 4,200千円 (直接経費: 4,200千円)
2006年度: 9,400千円 (直接経費: 9,400千円)
2005年度: 9,400千円 (直接経費: 9,400千円)
2004年度: 10,200千円 (直接経費: 10,200千円)
2003年度: 9,400千円 (直接経費: 9,400千円)
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| 研究概要 |
20世紀のCMOS技術ベースの集積化システムに続き,21世紀に入ってもMEMSが自動車,デジタル家電などの産業分野で本格的な実用化を迎え,さらに,医療やバイオテクノロジーの分野においてもマイクロTASやLab-on-a-chipが有力な新産業技術として急速に成長しており,ナノ・マイクロテクノロジーはハイテク産業の軸となる不可欠な技術である.本研究では,微小化によるプラズマ技術の新たな展開を目指す「マイクロプラズマ技術」を,これらの高付加価値・高機能マイクロシステム技術分野に展開し,その応用技術としての有用性を確立することを目的とし,(1)大気圧マイクロプラズマを用いた携帯型極微量元素検出システムや(2)マイクロマシン加工技術を開発・研究した.
(1)に関しては,携帯可能なチップ型プラズマ源を開発し,その高性能化ならびに当該プラズマ源の水溶液分析への適用の可能性を研究した.(2)に関しては大気圧マイクロプラズマジェットを用いたシリコン高速エッチングにより革新的な局所高速プロセスの可能性を明示し,チップ方式の大気圧マイクロプラズマジェット源を搭載した走査型マイクロプラズマジェットプロセス装置を開発した.さらに,走査型プラズマジェットエッチャーを用いてSiウエファ上に最小線幅0.3mmの局所加工を達成し,続いて生体適合性ポリマー(ポリジメチルシロキサン),酸化ケイ素膜の高速パターン加工を研究した.また,走査型ラジカルジェット装置を開発してポリマー表面の親水化処理を研究し,細胞のパターン化培養技術に応用した.さらに,時間領域差分法(Finite Difference Time Domain法)により,マイクロプラズマの内部パラメータのシミュレーションを行い,マイクロプラズマジェット技術をより深く理解するための知見を得た.
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