| 研究課題/領域番号 |
15350128
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子・繊維材料
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
相田 卓三 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (00167769)
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| 研究期間 (年度) |
2003 – 2004
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| 研究課題ステータス |
完了 (2004年度)
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| 配分額 *注記 |
15,500千円 (直接経費: 15,500千円)
2004年度: 3,700千円 (直接経費: 3,700千円)
2003年度: 11,800千円 (直接経費: 11,800千円)
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| キーワード | メソポーラスシリカ / 高分子重合 / 導電性高分子 / 反応場 / 孤立化 / 配向制御 |
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| 研究概要 |
末端にそれぞれチオフェン基、オリゴエチレングリコール基を有する両親媒性分子を設計し、これを鋳型とするメゾ構造シリカの構築に、ゾル・ゲル法を用いて成功した。更に、塩化鉄(III)を酸化剤として用いると、シリカのチャネル内に充填されたチオフェンが酸化重合し、洗浄による酸化剤の除去により、ポリチオフェン由来の蛍光が観測された。蛍光波長のピークトップは、両親媒性分子単独を重合させた場合と比べ長波長シフトしており、シリカチャネル内ではポリマーの有効共役長が延びている可能性が示唆された。メゾ構造シリカにおいて、一つのドメイン中ではチャネルの方向は揃っているものの、よりマクロなスケールではドメイン間のランダマイズにより方向は無秩序である。マイクロメートルスケールでのチャネルの配列方向の制御のために、リソグラフィーの技術を利用してシリコン基盤に加工した溝上でゾルゲル反応を行う手法が提案され、実際に配列が制御されたメゾ構造シリカが構築されている。そこで、この技術を開発した研究グループとの共同研究により、ポリチオフェンの配列制御を試みた。ゾル・ゲルの条件を最適化して調製したサンプルを溝の長軸、短軸方向に切断し、TEMによる観察を行ったところ、溝の長軸方向にシリカチャネルが配列していることが確認された。更に、この手法で調製したサンプルの蛍光偏光解消実験から、ポリチオフェンの配向制御にも有効であることが分かった。
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