| 研究課題/領域番号 |
15550187
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子・繊維材料
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| 研究機関 | 兵庫県立大学 (2004)
姫路工業大学 (2003) |
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研究代表者 |
川月 喜弘 兵庫県立大学, 工学研究科, 助教授 (60271201)
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| 研究期間 (年度) |
2003 – 2004
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| 研究課題ステータス |
完了 (2004年度)
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| 配分額 *注記 |
3,100千円 (直接経費: 3,100千円)
2004年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2003年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
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| キーワード | 高分子液晶 / 光配向 / 光増感反応 / 偏光回折格子 / 位相差フィルム / 光増感 / ホログラフィー / 偏光 / 回折格子 / 表面レリーフ |
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| 研究概要 |
2年間の研究では側鎖にシンナモイルオキシビフェニル基を有する高分子液晶に種々の三重項増感剤を少量添加したフィルムの偏光光反応を行うとともに、干渉露光法やマスク露光法による表面レリーフ形成および偏光回折格子の作製と光学特性の評価を詳細に行った。その結果、光架橋性高分子液晶に、3重項光増感剤としてビスヂエチルアミノベンゾフェノンないしはベンゾアントラキノンを数%〜10%混入し、そのフイルムへ直線偏光紫外光、ならびに365、405nmの単色光をもちいて光反応させたところ、反応速度が50倍以上高感度化されること、405nmでは増感剤をドープした際のみに光反応されることを確認した。さらに、露光されたフイルムを液晶温度で加熱すると、従来と同様にその異方性が増幅されることが分かった。また、干渉露光法において強度変調により露光すると表面レリーフが形成されること、2光束の偏光方向を直交させると、偏光方向の変調となり表面レリーフは形成されず、その干渉した偏光電界の周期構造に応じた分子配向が誘起された安定な"偏光ホログラム"を初めて形成することができた。さらに、二光子励起反応による偏光光増感反応や発光特性の解析により偏光軸を保持した励起エネルギー移動メカニズム解明の足がかりを得ることができた。
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