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水溶液中でのシリコン単結晶表面ハロゲン化メカニズムの解明とサイト選択的制御

研究課題

研究課題/領域番号 15750119
研究種目

若手研究(B)

配分区分補助金
研究分野 機能物質化学
研究機関大阪大学

研究代表者

今西 哲士  大阪大学, 基礎工学研究科, 助教授 (60304036)

研究期間 (年度) 2003 – 2004
研究課題ステータス 完了 (2004年度)
配分額 *注記
3,600千円 (直接経費: 3,600千円)
2004年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
2003年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
キーワードシリコン / 水素終端化 / ハロゲン / ナノクラスター / 溶存酸素 / 表面 / ヨウ素終端化 / Si(111) / ハロゲン化 / ヨウ化水素酸
研究概要

本研究では、HIおよびHBr水溶液中における水素終端化Si(111)面のハロゲン化反応について詳しく調べた。まず、<1-1-2>とく112->方向へ微傾斜した(111)面を用いてそのstep構造(stepサイト)とハロゲン化反応との関連性をAFMおよび内部多重反射FT-IR法を用いて詳しく調べた。その結果、<1-1-2>微傾斜面は、<112->微傾斜面に比べると、ハロゲン終端化反応が促進されることが分かった。また、Si表面のエッチング反応を伴うハロゲン化シリコンのナノクラスター形成反応においても同様に<1-1-2>微傾斜面の方が促進されることが分かった。<1-1-2>微傾斜面は、もう一方の面に比べると、反応活性の低いmono-hydrideサイトよりも反応活性が高いdi-hydrideサイトを多く含む。よって、この結果は、ハロゲン終端化反応および、クラスター形成反応が、ハロゲンイオンによるdi-hydirideとの反応に支配されていることを意味している。詳しい解析の結果、di-hydride stepサイトがエッチングされると同時に、新たに現れたterraceサイトがハロゲン終端化され、またエッチング痕が同時にナノクラスターを形成することが分かった。これによって、ハロゲン終端化が活性であるstepサイトから起きずに、terraceサイトのみを終端していくことも説明出来るようになった。また、HIやHBr水溶液中の溶存酸素濃度を変化させて、形成されるクラスターの観察を行った結果、溶存酸素がある時のみ、ハロゲン終端化反応とクラスター形成反応が同時に起こり、溶存酸素がないとクラスター形成反応のみが進行することが分かった。これは、溶存酸素による酸化反応が、ハロゲン終端化反応と密接に関係していることを示しており、非常に興味深い結果となった。

報告書

(2件)
  • 2004 実績報告書
  • 2003 実績報告書
  • 研究成果

    (2件)

すべて 2004 2003

すべて 雑誌論文 (2件)

  • [雑誌論文] Temperature Dependence of Formation of Nano-Rods and Dots of Iodine Compounds on an H-Terminated Si(111) Surface in a Concentrated HI Solution2004

    • 著者名/発表者名
      Akihito Imanishi
    • 雑誌名

      Langmuir 20

      ページ: 4604-4608

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書
  • [雑誌論文] 水溶液中の反応を利用した水素終端化シリコン表面の分子修飾とナノ構造形成2003

    • 著者名/発表者名
      今西哲士
    • 雑誌名

      表面 41

      ページ: 18-31

    • NAID

      40006240875

    • 関連する報告書
      2004 実績報告書

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公開日: 2003-04-01   更新日: 2016-04-21  

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