| 研究課題/領域番号 |
15H02313
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(A)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
|
|---|
| 研究機関 | 広島大学 |
|---|
研究代表者 |
都留 稔了 広島大学, 工学研究科, 教授 (20201642)
|
|---|
| 研究分担者 |
郡司 天博 東京理科大学, 理工学部先端化学科, 教授 (20256663)
伊藤 賢志 国立研究開発法人産業技術総合研究所, 計量標準総合センター, 研究グループ長 (90371020)
|
|---|
| 連携研究者 |
金指 正言 広島大学, 大学院工学研究院, 准教授 (10467764)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
|
| 配分額 *注記 |
44,850千円 (直接経費: 34,500千円、間接経費: 10,350千円)
2017年度: 9,230千円 (直接経費: 7,100千円、間接経費: 2,130千円)
2016年度: 13,390千円 (直接経費: 10,300千円、間接経費: 3,090千円)
2015年度: 22,230千円 (直接経費: 17,100千円、間接経費: 5,130千円)
|
|---|
| キーワード | 膜分離 / シリカ / オルガノシリカ / シリカ膜 / 細孔 / 分離 / 薄膜 / ゾル-ゲル / 分離膜 / Molecular-Net Sieving / 評価 / 膜 / 気体 / ナノろ過 |
|---|
| 研究成果の概要 |
膜構成分子の隙間（ネットワーク細孔）を分子篩の細孔としてナノチューニングし，極めて薄膜（膜厚50nm以下）製膜するMolecular-Net Sievingにより，高選択・高透過性を有する分離膜の製膜学理を研究目的とした。まず，POSS構造を有するアルコキシドの合成，蒸気吸着分光解析法及び陽電子消滅法によるMolecular-Net Sieving材料の特性評価を行った。さらに，sシリカ膜の製膜プロセッシングと特性評価では，ゾル調製条件の最適化による細孔径制御技術，各種の架橋基を有するアルコキシシランによる細孔径制御技術，pH-swing法について検討し，高選択透過性膜の開発が可能となった。
|
