| 研究課題/領域番号 |
15H03592
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
量子ビーム科学
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| 研究機関 | 兵庫県立大学 |
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研究代表者 |
木下 博雄 兵庫県立大学, 産学連携・研究推進機構, 特任教授 (50285334)
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| 研究分担者 |
原田 哲男 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 助教 (30451636)
村松 康司 兵庫県立大学, 工学研究科, 教授 (50343918)
渡邊 健夫 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (70285336)
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| 連携研究者 |
渡邊 健夫 兵庫県立大学, 高度産業科学技術研究所, 教授 (70285336)
村松 康司 兵庫県立大学, 工学研究科, 教授 (50343918)
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| 研究期間 (年度) |
2015-04-01 – 2018-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2017年度)
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| 配分額 *注記 |
13,520千円 (直接経費: 10,400千円、間接経費: 3,120千円)
2017年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
2016年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
2015年度: 8,450千円 (直接経費: 6,500千円、間接経費: 1,950千円)
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| キーワード | 光学定数 / 透過率 / 吸収係数 / フォトレジスト / 極端紫外線 / フィルター / 多層膜 / 反射率 / フォトダイオード / PMMA / 軟Ｘ線 / 軟X線 / 偏光 / 軟X線光学定数 |
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| 研究成果の概要 |
光学定数を評価するには正確な反射率評価が必要である。重要なことは、高次光除去、偏光制御、散乱成分除去である。この中で高次光制御機構と、偏光制御機構を開発し、正確な光学定数評価が可能なビームラインを構築した。特に、フォトレジストの吸収係数は、レジスト開発の重要なパラメーターとなってきており、透過法と反射法での測定値を比較した。また、EUV領域でよく用いられるSi, Mo, Zr, Si3N4, TaNの光学定数を測定した。さらに、フォトレジストの炭素K吸収端の共鳴吸収領域にて、反射法にて光学定数を測定し、全電子収量法で測定したスペクトルと比較した。
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